產(chǎn)品別名 |
瓦克N20 |
面向地區(qū) |
瓦克WACKER氣相二氧化硅HDK®N20通過在氫氧焰內(nèi)高溫水解揮發(fā)性氯硅烷而制得。N20的特性是具有很好的防沉淀，防垂流，增稠,提高介電性能,促進(jìn)自由流動,自清等,是一種效果優(yōu)良的自由流動助劑，正負(fù)體系外加控制劑，括性組分(催化劑等)載體,造粒助劑,加工助劑,防結(jié)塊劑,穩(wěn)定劑。
品 牌：瓦克WACKER
型 號：HDK® N20儲存：干燥密封貯存，不能與強(qiáng)堿性物質(zhì)接觸。
HDK®氣相二氧化硅的原生粒子為5~50nm，聚集體粒徑為0.1~0.5um，原生粒子不會以單的形式存在。焰解反應(yīng)可值得不同比表面積的HDK®。原生粒子粒徑、聚集體越大，比表面積相對越小。 外觀 蓬松白色粉末 BET表面積 200±30m2/g 原生粒子平均粒徑 12 nm 壓緊密度近似值 40 g/l 折射率 1.46 硅烷醇密度 2 SiOH/nm2 PH值 3.8-4.3 SiO2含量 ≥99.8 % 密度為50-60g時的電阻 ＞10(13) 干燥失重105°C2h（出廠時） ＜2 % 灼燒失重1000℃2h ＜1.5 % 篩余物 ＜0.04 這些數(shù)據(jù)都是僅為參考性數(shù)據(jù)，各項指標(biāo)在不同的應(yīng)用中有可能不同。
HDK®氣相法二氧化硅的高化學(xué)純度也是該產(chǎn)品可用于藥物、生物化學(xué)制劑、化妝品和食品領(lǐng)域的一個原因。
在氣相法二氧化硅顆粒表面存在硅氧烷和硅醇基團(tuán)，硅醇基團(tuán)的存在說明表面未處理的HDK®氣相二氧化硅具有親水性。在多數(shù)情況下，HDK®氣相法二氧化硅通過這些硅醇基與固體、液體和氣體相互作用。
深圳易普諾化工有限公司 6年
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