IONPURE西門(mén)子EDI模塊 EDI系統(tǒng)IONPURE西門(mén)子EDI模塊IP-LXM45ZEDI模塊是出水量為5噸規(guī)格的模塊，是西門(mén)子公司針對(duì)工業(yè)水處理打造的EDI模塊產(chǎn)品。針對(duì)工業(yè)應(yīng)用而開(kāi)發(fā)西門(mén)子工業(yè)型膜堆利用連續(xù)電去離子技術(shù)（CEDI）生產(chǎn)高純水，其產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水。由純水室、濃水室、電極板等部分組成。

-LXM30Z運(yùn)行參數(shù)及產(chǎn)水水質(zhì)

典型膜堆性能
操作參數(shù)
回收率 90-95%
允許進(jìn)水壓力上限 7bar（100psi）
允許進(jìn)水溫度上限 45℃（113F）
名義流量時(shí)的壓降范圍 1.4-2.1bar（20-30psi）
產(chǎn)水水質(zhì)
產(chǎn)水電阻率 >16MQ.cm（見(jiàn)下面說(shuō)明）
說(shuō)明：實(shí)際性能可以用lonpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定
硅（SiO2）去除率 90-99%，取決于進(jìn)水條件

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會(huì)影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過(guò)噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤(rùn)濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對(duì)超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動(dòng) EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類(lèi)和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿(mǎn)足現(xiàn)場(chǎng)光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計(jì)技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行費(fèi)用。