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工業(yè)EDI去離子水設(shè)備。
維修注意事項(xiàng)。
1、做好登記工作，方便日后備查；
2、設(shè)備完全智能化，但仍需不定期人工檢查設(shè)備運(yùn)行情況；
3、設(shè)備的自潔環(huán)節(jié)至關(guān)重要，要定期檢查運(yùn)行是否正常；
4.定期更換濾芯；
5、定期監(jiān)測反滲透主機(jī)運(yùn)行時(shí)的壓力、流量、水質(zhì)指標(biāo)；
6、注意水質(zhì)，如果水質(zhì)太差，會(huì)導(dǎo)致設(shè)備損壞。

EDI模塊的維護(hù)主要是針對(duì)出水量下降、水質(zhì)惡化等問題，是對(duì)EDI進(jìn)行清洗、調(diào)整參數(shù)、更換部件。
EDI模塊用于水的凈化，如超純水的制備。
在制備超純水或其他應(yīng)用過程中，EDI模塊可能因外部壓力過大或內(nèi)部故障而需要維修。
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引起EDI模塊故障的原因主要有以下幾點(diǎn)：

1、當(dāng)模塊長期處于大電流、小流量的運(yùn)行狀態(tài)時(shí)，運(yùn)行溫度會(huì)增加并且不能及時(shí)散熱，將會(huì)導(dǎo)致兩極膜片受熱變形，導(dǎo)致進(jìn)出水壓差增大，產(chǎn)水水量減少、水質(zhì)下降。

2、當(dāng)EDI模塊長期沒有保養(yǎng)或清洗，將會(huì)使得EDI內(nèi)部膜片和通道結(jié)垢，進(jìn)出水壓差增大，產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流調(diào)節(jié)異常，***終將導(dǎo)致模塊無法使用，影響工作進(jìn)度。

3、當(dāng)清洗、保養(yǎng)時(shí)使用不合適的藥劑,會(huì)使得模塊內(nèi)部樹脂破損，導(dǎo)致進(jìn)出水壓差增大，產(chǎn)水水量減少、水質(zhì)下降。

4、在缺水缺水狀態(tài)加電，導(dǎo)致膜片和樹脂發(fā)熱碳化。

深圳超純環(huán)保股份有限公司有***維修技術(shù)人員可以對(duì)EDI模塊、CEDI模塊的損壞程度進(jìn)行診斷并提供維修/再生服務(wù)，***EDI模塊恢復(fù)正常水平，避免更換模塊的***，用較少***延長使用時(shí)間。

IONPURE西門子EDI模塊 EDI系統(tǒng)IONPURE西門子EDI模塊IP-LXM45ZEDI模塊是出水量為5噸規(guī)格的模塊，是西門子公司針對(duì)工業(yè)水處理打造的EDI模塊產(chǎn)品。針對(duì)工業(yè)應(yīng)用而開發(fā)西門子工業(yè)型膜堆利用連續(xù)電去離子技術(shù)（CEDI）生產(chǎn)高純水，其產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水。由純水室、濃水室、電極板等部分組成。

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會(huì)影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對(duì)超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動(dòng) EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計(jì)技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行費(fèi)用。

使用EDI超純水系統(tǒng)時(shí)有一定的規(guī)則，用戶需要遵守這些規(guī)則。，在使用設(shè)備時(shí)，不能立即進(jìn)入工作狀態(tài)。操作前預(yù)熱并等待10分鐘。然后，讓我們看看EDI超純水系統(tǒng)的維護(hù)和使用注意事項(xiàng)。

　　一、EDI超純水系統(tǒng)運(yùn)行

　　設(shè)備在運(yùn)行一段時(shí)間后可能會(huì)發(fā)熱。這是正常的，但在設(shè)備運(yùn)行了一定時(shí)間后，有必要讓設(shè)備休息一下。

　　此外，EDI超純水系統(tǒng)的工作時(shí)間為每天8小時(shí)，10小時(shí)可以，但使用一段時(shí)間后，用戶清潔設(shè)備以恢復(fù)受污染設(shè)備的原始性能。在恢復(fù)設(shè)備性能的同時(shí)，應(yīng)盡可能確保清洗安全，避免損壞超純水系統(tǒng)。