真空度低解決方法：清潔真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導(dǎo)輥；檢查抽真空系統(tǒng)；降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體 解決方法：薄膜預(yù)干燥；延長抽真空時間。 ③噴鋁過多解決方法：提高車速；降低蒸發(fā)舟電流；降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內(nèi)有雜質(zhì) 解決方法：清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化 解決方法：更換蒸發(fā)舟。 補充： 以上不知道有沒有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問題我就不知道了，不好意思。 追問： 不好意思，我沒有說你才疏學(xué)淺的意思- -#，我意思說就像發(fā)黃的原因有：1, 真空度過低;延長抽真空時間 2, 鍍膜時有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3，鍍膜時間過長；噴鋁過多 4，鍍膜電流過高

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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。?

對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。?

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

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離子鍍膜，一個精密的工藝過程，其核心是離子濺射鍍膜。對于導(dǎo)電靶，偏壓電源扮演了關(guān)鍵角色，采用直流電場的精密調(diào)控，確保陰極表面的電子被加速，進而轟擊氣體分子，引發(fā)電離現(xiàn)象。這個過程中，電子被電場驅(qū)動，形成雪崩效應(yīng)，直至氣體被擊穿，形成穩(wěn)定的電離電流，進而驅(qū)動離子加速，撞擊靶材，將原子釋放并沉積在樣品表面，形成所需涂層。

偏壓電源，就像熒光燈中的核心組件，它通過高頻轉(zhuǎn)換電路，以單極性脈沖方式輸出。電源電壓的精細(xì)調(diào)整通過改變高頻轉(zhuǎn)換電路的輸入電壓實現(xiàn)，穩(wěn)壓性能高達1%。這種設(shè)計允許在工藝所需電壓的同時，通過調(diào)整脈沖寬度來控制工件的加熱效果，適用于各種涂層需求，從工具保護到裝飾美化。

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抽空時間相同，而真空度偏低，這時候關(guān)閉主閥，如真空計指針很快下降，多數(shù)情況是真空室漏，應(yīng)先查出漏點。如真空計指針下降很慢，多數(shù)情況是真空機組抽氣能力不夠，查找真空泵及閥門看哪里出現(xiàn)泄漏，或是擴散泵油污染或氧化；或前級管路密封不好，泵油不足；或泵油乳化，軸封漏油等。漏--分內(nèi)漏和外漏，較大的漏點可以用火焰法，利用氣流能使火焰偏離的原理，先抽上真空，比如用蠟燭或打火機在可疑點附近逐步查尋，會發(fā)現(xiàn)火苗向漏點偏移，則可找到漏點。查找小漏和微漏：利用在高真空狀態(tài)下電離管對某些氣體反應(yīng)敏感來檢漏，比如丙酮或乙醇，用醫(yī)用注射器向可疑的地方噴射丙酮或乙醇，噴到漏點時，電離計的指針會有明顯擺動。用這種方法檢漏一定要有耐心，一定要等到電離計的示值穩(wěn)定了--也就是真空機組的抽氣能力和漏率平衡了，然后再噴射。好是反復(fù)幾次，確認(rèn)漏點。內(nèi)漏多發(fā)生在有水冷套的設(shè)備上，查外漏沒有發(fā)現(xiàn)疑點，但是卻有以下現(xiàn)象：機械泵的抽速明顯偏低、真空計示值低、機械泵油很快乳化、真空室內(nèi)的鐵基零部件明顯銹蝕。具備以上條件基本可以確定有內(nèi)漏。

真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水，來確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定，所以會選擇使用水冷式冷水機來作為真空鍍膜加工冷卻設(shè)備。

一 真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備冷水機的作用

真空鍍膜加工過程中，真空鍍膜機作為主要設(shè)備，工作過程中有高頻電流過程，電導(dǎo)會在反復(fù)過程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起，需要冷卻設(shè)備及時地進行冷卻，避免設(shè)備部件損壞，影響使用壽命；另外，真空鍍膜電鍍液需要根據(jù)電鍍產(chǎn)品不同進行溫度調(diào)節(jié)，并保持相對恒溫，反復(fù)鍍膜會造成鍍液溫度升高，同樣需要冷卻設(shè)備來準(zhǔn)確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中，根據(jù)真空鍍膜加工的實際需求，選用相應(yīng)規(guī)格的冷水機設(shè)備來進行、穩(wěn)定的溫度控制調(diào)節(jié)是經(jīng)濟有效的解決方案。

利摘要顯示，本申請關(guān)于一種真空鍍膜自動加料裝置，涉及真空鍍膜領(lǐng)域。該真空鍍膜自動加料裝置包括支架，支架上安裝有滑動機構(gòu)，滑動機構(gòu)上安裝有驅(qū)動機構(gòu)以及加料機構(gòu)，驅(qū)動機構(gòu)的動力輸出端與加料機構(gòu)傳動連接；加料機構(gòu)的上方還安裝有儲料罐，儲料罐將粉料輸送至加料機構(gòu)內(nèi)，加料機構(gòu)與外部管式爐的進料口接駁；其中，儲料罐上還安裝有攪拌機構(gòu)，攪拌機構(gòu)將儲料罐內(nèi)的粉料均勻的輸送至加料機構(gòu)內(nèi)。實現(xiàn)了在CVD過程中，粉末狀態(tài)的蒸發(fā)材料（如派瑞林）少量、連續(xù)進入管式爐以進行后續(xù)的加熱、升華、裂解工藝，既滿足了蒸發(fā)材料的用量，又達到了實時動態(tài)調(diào)整進料量的目的，提升了鍍膜效果，并實現(xiàn)了一種以上的蒸發(fā)材料復(fù)合鍍膜的工藝需求。

裝飾真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。

　　該設(shè)備具有：結(jié)構(gòu)合理，膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便，能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。

　　可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、TPU等。

　　鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全?。?、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴、七彩等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍、綠、紫、七彩等等。

1）所需設(shè)備：CCZK-1350-OGS光學(xué)電子槍鍍膜設(shè)備
　　2）獲得膜層：多層化合物膜層，超硬防水膜層，防指紋膜層，彩色膜層
　　3）涂裝流程：玻璃產(chǎn)品的前處理清洗----烘箱烘干-----真空鍍膜----成品包裝
　　4）基本配置：
　　腔體結(jié)構(gòu)：D1350MM*H1350MM 立式單開門
　　腔體材質(zhì)：304不銹鋼
　　轉(zhuǎn)動方式：公自轉(zhuǎn)結(jié)合，穹頂行星式轉(zhuǎn)架
　　蒸發(fā)電源：SCR可控硅+大功率蒸發(fā)變壓器
　　蒸發(fā)阻源：3組
　　電 子 槍：E型電子槍，磁偏轉(zhuǎn)270°
　　坩 ? ?堝：可旋轉(zhuǎn)多孔位坩堝

現(xiàn)場實際運行證明丹佛斯FC302驅(qū)動器+MCO305運動控制器的解決方案完夠滿足真空鍍膜機的卷繞控制要求。整機加減速速度超過原來的控制方式，大大減少了原材料的浪費?？刂葡到y(tǒng)調(diào)試和參數(shù)設(shè)置都比較方便。令客戶滿意的是電機可以采用比較經(jīng)濟的交流異步電機，在張力控制精度要求更高的場合才需要升級使用交流永磁同步電機。由于FC302既能驅(qū)動異步電機，又能驅(qū)動同步電機，系統(tǒng)升級時只需簡單地更換電機即可。

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