Gemini 物鏡的設(shè)計結(jié)合了靜電場與磁場， 在提升光學(xué)性能的同時將它們對樣品的影 響降至低。因此，即便是要求苛刻的樣 品 —— 如磁性材料，也能進(jìn)行成像。 在 Gemini 鏡筒設(shè)計理念中， Inlens 用二次 電子( SE ) 和背散射電子( BSE ) 探測器來 確保的信號檢測。
Gemini 3 型鏡筒介紹
Gemini 3 型鏡筒是專為表面靈敏成像領(lǐng)域 的苛刻任務(wù)而設(shè)計，它確保成像在 1 kV 至 30 kV 的所有工作條件下都能達(dá)到高分 辨率。它由兩個協(xié)同工作的組件組成，即 Nano-twin 物鏡和智能自動光路調(diào)節(jié)—— 它 們組成一個全新的電子光學(xué)引擎。 BSE 的優(yōu) 勢也可以為您提供良好的圖像襯度，讓您可 以從樣品中提取出盡可能多的信息。
? 通過 Nano-twin 物鏡實現(xiàn)低電壓下的優(yōu) 化高分辨率
? 通過新的大視野概覽模式實現(xiàn)樣品導(dǎo)航和 高分辨率成像之間的無縫過渡
? 通過新的自動聚焦功能和新的快速鏡筒對 中算法實現(xiàn)高速優(yōu)化圖像質(zhì)量。
智能自動光路調(diào)節(jié)優(yōu)化了通過鏡筒的電子軌 跡，從而確保了在每個加速電壓下盡可能高 的分辨率。它還引入了新的自動功能，在整 個放大倍數(shù)范圍內(nèi)(從 1 倍到 2,000,000 倍) 實現(xiàn)無縫對準(zhǔn)自由切換，并將觀察視野增 加了 10 倍，從而可以在單幅圖像中完整成 像 13 厘米的物體。GeminiSEM 560 保持了 市場上尺寸達(dá) 32k × 24k 的超大圖像存儲像素， 在大視野無畸變拼接成像方面優(yōu)勢。
分辨率模式
在高分辨率電子槍模式下， 電子束色差降低， 從而實現(xiàn)更小的束斑。
在樣品臺減速技術(shù)模式下， 為樣品施加減 速電壓。該減速電壓可進(jìn)一步提高 1 kV 以 下的圖像分辨率并增強背散射探測器的檢 測效率。
背散射電子產(chǎn)生于樣品表面之下，可提供 樣品材質(zhì)成分的襯度信息。背散射電子通 常以與入射電子束成 15 度角的圓錐狀出 射， 被 Gemini 鏡筒電子束推進(jìn)器吸入后射 到鏡筒內(nèi)。由于二次電子( SE ) 與背散射 電子( BSE ) 具有不同的能量，它們會在電 子束推進(jìn)器內(nèi)產(chǎn)生不同軌跡。
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