真空度低解決方法：清潔真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導輥；檢查抽真空系統(tǒng)；降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體 解決方法：薄膜預干燥；延長抽真空時間。 ③噴鋁過多解決方法：提高車速；降低蒸發(fā)舟電流；降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內(nèi)有雜質 解決方法：清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化 解決方法：更換蒸發(fā)舟。 補充： 以上不知道有沒有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問題我就不知道了，不好意思。 追問： 不好意思，我沒有說你才疏學淺的意思- -#，我意思說就像發(fā)黃的原因有：1, 真空度過低;延長抽真空時間 2, 鍍膜時有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3，鍍膜時間過長；噴鋁過多 4，鍍膜電流過高
離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結構件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學氣相沉積設備與技術(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質鍍膜新技術。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。
發(fā)黑通常是由于過早氧化造成的。泛黃一般是因為鋁源中含有雜質過多，一般純度應在4 N或5N以上。無論是涂布機的真空度不達標，都要達到10—7倍Pa。（不準確）。涂敷物品的清洗不，表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理，溫度過高或過低。涂層項目的潛在設置不合理。真空擴散泵油應更換。調(diào)節(jié)蒸發(fā)源的溫度，不能太低或太高。如果電子束蒸發(fā)，電子束的轟擊位置也應該調(diào)整。
真空鍍膜加工中冷卻設備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水，來確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定，所以會選擇使用水冷式冷水機來作為真空鍍膜加工冷卻設備。
一 真空鍍膜加工中冷卻設備冷水機的作用
真空鍍膜加工過程中，真空鍍膜機作為主要設備，工作過程中有高頻電流過程，電導會在反復過程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起，需要冷卻設備及時地進行冷卻，避免設備部件損壞，影響使用壽命；另外，真空鍍膜電鍍液需要根據(jù)電鍍產(chǎn)品不同進行溫度調(diào)節(jié)，并保持相對恒溫，反復鍍膜會造成鍍液溫度升高，同樣需要冷卻設備來準確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中，根據(jù)真空鍍膜加工的實際需求，選用相應規(guī)格的冷水機設備來進行、穩(wěn)定的溫度控制調(diào)節(jié)是經(jīng)濟有效的解決方案。
真空蒸鍍金屬薄膜怎么樣？這個問題不能一概而論，要根據(jù)您的具體情況進行分析。這里簡單介紹一下真空蒸鍍金屬薄膜的特點，供您參考。鍍鋁薄膜與鋁箔復合材料相比具有以下特點：（1）大大減少了用鋁量，節(jié)省了能源和材料，降低了成本，復合用鋁箔厚度多為7～9pm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0．05n左右，其耗鋁量約為鋁箔的1/140～1/180，且生產(chǎn)速度可高達450m/min。（2）具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性，很少出現(xiàn)針孔和裂口，無揉曲龜裂現(xiàn)象，因此對氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。（3）具有的金屬光澤，光反射率達到97%；且可以通過涂料
裝飾真空鍍膜設備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。
該設備具有：結構合理，膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便，能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。
可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、TPU等。
鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全?。⒐に囯婂儼櫦y、拉絲、雨滴、七彩等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍、綠、紫、七彩等等。
1）所需設備：CCZK-1850SFL連續(xù)式磁控鍍膜流水線
2) 獲得膜層：一層或多層金屬，合金或金屬化合物膜層
3）涂裝流程： 玻璃產(chǎn)品的前處理清洗過程---進片上線臺---粗抽室---過渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過渡室---粗抽室---出片下線臺---淋漆流水線（如果需要）---包裝成品
4）基本配置：
1.腔體結構：采用的臥式連續(xù)磁控鍍膜流水線，配備前后粗抽室，前后過渡室，前后精抽室，前后緩沖室，彩鍍室。
2.腔體材質：碳鋼
3.靶材設計：采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
4.電源配置：配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
5.電氣控制：生產(chǎn)線采用PLC全過程控制，配備工業(yè)計算機人機交互系統(tǒng)，快速的節(jié)拍設計。
6.人機對話：控制系統(tǒng)能實現(xiàn)人、機對話，及時對生產(chǎn)過程進行必要干預。運行過程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
7.傳動系統(tǒng)：滾軸傳動，變頻可調(diào)
8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
9. 生產(chǎn)線安采用了的插板閥進行腔室隔斷，可以實現(xiàn)有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。
10.生產(chǎn)線采用了均勻進氣管結構設計，氣流注入均勻平緩；
11.泵抽系統(tǒng)：擴散泵組或分子泵組+機械泵+羅茨泵
5）需求配套設施：
直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅動蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅動擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質量而不是其光學厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成重大誤差。
? ? 光學監(jiān)控是高精密鍍膜的的監(jiān)控方式，這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當)。度的改進源于很多因素,但根本的原因是對光學厚度的監(jiān)控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長光學監(jiān)控系統(tǒng)，是采用間接測控，結合汪博士開發(fā)的光學監(jiān)控軟件，有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測波長。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。
懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的卷繞控制要求的轉矩控制，以般采用直流驅動，但是隨著交流驅動技術的飛速發(fā)展，現(xiàn)在逐步采用交流永磁同步伺服電機或交流異步電機驅動。丹佛斯FC302系列驅動器具有伺服級的驅動性能，驅動交流異步電機也有實現(xiàn)平穩(wěn)的轉矩控制，為這個行業(yè)提供了一種易用的解決方案，用戶只需要設置幾個簡單的參數(shù)，就能滿足實際生產(chǎn)需求，操作和調(diào)試也非常簡便。
一、懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的傳動結構：
放卷轉向為正
放卷轉向為負
3驅動懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的典型傳動結構，其中：
M1為冷卻輥，直徑恒定，由一臺FC302驅動，冷輥的速度即為鍍膜的線速度。
M2為收卷輥，中心卷繞，直徑逐步變大，由一臺FC302驅動，提供收卷張力。
M3為放卷輥，中心卷繞，直徑逐步變小，由一臺FC302驅動，提供放卷張力。
冷卻輥和收卷輥的轉向是固定的，但是放卷輥由于卷筒卷繞方向不同，工作時有正、反兩種轉向，對應反、正兩種轉矩。
真空鍍膜機傳動系統(tǒng)的特點：
1.由于真空室狹小，無法安裝張力檢測裝置，所以收、放卷張力完全要靠收、放卷驅動的電機直接控制。因此收、放卷驅動器都工作于轉矩工作模式。對于較輕較薄的材料，收卷還有張力錐度功能。
2.由于工藝方面的原因，起主傳動作用的冷卻輥上沒有壓輥，因此冷卻輥只能靠摩擦力帶動薄膜；收、放卷張力相差較大時，薄膜很容易在冷卻輥上打滑。如何防止打滑是驅動控制方面的難題。
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