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離子鍍膜，一個精密的工藝過程，其核心是離子濺射鍍膜。對于導電靶，偏壓電源扮演了關(guān)鍵角色，采用直流電場的精密調(diào)控，確保陰極表面的電子被加速，進而轟擊氣體分子，引發(fā)電離現(xiàn)象。這個過程中，電子被電場驅(qū)動，形成雪崩效應，直至氣體被擊穿，形成穩(wěn)定的電離電流，進而驅(qū)動離子加速，撞擊靶材，將原子釋放并沉積在樣品表面，形成所需涂層。

偏壓電源，就像熒光燈中的核心組件，它通過高頻轉(zhuǎn)換電路，以單極性脈沖方式輸出。電源電壓的精細調(diào)整通過改變高頻轉(zhuǎn)換電路的輸入電壓實現(xiàn)，穩(wěn)壓性能高達1%。這種設(shè)計允許在工藝所需電壓的同時，通過調(diào)整脈沖寬度來控制工件的加熱效果，適用于各種涂層需求，從工具保護到裝飾美化。

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抽空時間相同，而真空度偏低，這時候關(guān)閉主閥，如真空計指針很快下降，多數(shù)情況是真空室漏，應先查出漏點。如真空計指針下降很慢，多數(shù)情況是真空機組抽氣能力不夠，查找真空泵及閥門看哪里出現(xiàn)泄漏，或是擴散泵油污染或氧化；或前級管路密封不好，泵油不足；或泵油乳化，軸封漏油等。漏--分內(nèi)漏和外漏，較大的漏點可以用火焰法，利用氣流能使火焰偏離的原理，先抽上真空，比如用蠟燭或打火機在可疑點附近逐步查尋，會發(fā)現(xiàn)火苗向漏點偏移，則可找到漏點。查找小漏和微漏：利用在高真空狀態(tài)下電離管對某些氣體反應敏感來檢漏，比如丙酮或乙醇，用醫(yī)用注射器向可疑的地方噴射丙酮或乙醇，噴到漏點時，電離計的指針會有明顯擺動。用這種方法檢漏一定要有耐心，一定要等到電離計的示值穩(wěn)定了--也就是真空機組的抽氣能力和漏率平衡了，然后再噴射。好是反復幾次，確認漏點。內(nèi)漏多發(fā)生在有水冷套的設(shè)備上，查外漏沒有發(fā)現(xiàn)疑點，但是卻有以下現(xiàn)象：機械泵的抽速明顯偏低、真空計示值低、機械泵油很快乳化、真空室內(nèi)的鐵基零部件明顯銹蝕。具備以上條件基本可以確定有內(nèi)漏。

離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結(jié)構(gòu)件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學氣相沉積設(shè)備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。

真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水，來確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定，所以會選擇使用水冷式冷水機來作為真空鍍膜加工冷卻設(shè)備。

一 真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備冷水機的作用

真空鍍膜加工過程中，真空鍍膜機作為主要設(shè)備，工作過程中有高頻電流過程，電導會在反復過程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起，需要冷卻設(shè)備及時地進行冷卻，避免設(shè)備部件損壞，影響使用壽命；另外，真空鍍膜電鍍液需要根據(jù)電鍍產(chǎn)品不同進行溫度調(diào)節(jié)，并保持相對恒溫，反復鍍膜會造成鍍液溫度升高，同樣需要冷卻設(shè)備來準確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中，根據(jù)真空鍍膜加工的實際需求，選用相應規(guī)格的冷水機設(shè)備來進行、穩(wěn)定的溫度控制調(diào)節(jié)是經(jīng)濟有效的解決方案。

1）所需設(shè)備：CCZK-1850SFL連續(xù)式磁控鍍膜流水線
　　2) 獲得膜層：一層或多層金屬，合金或金屬化合物膜層
　　3）涂裝流程： 玻璃產(chǎn)品的前處理清洗過程---進片上線臺---粗抽室---過渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過渡室---粗抽室---出片下線臺---淋漆流水線（如果需要）---包裝成品
　　4）基本配置：
　　1.腔體結(jié)構(gòu)：采用的臥式連續(xù)磁控鍍膜流水線，配備前后粗抽室，前后過渡室，前后精抽室，前后緩沖室，彩鍍室。
　　2.腔體材質(zhì)：碳鋼
　　3.靶材設(shè)計：采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
　　4.電源配置：配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
　　5.電氣控制：生產(chǎn)線采用PLC全過程控制，配備工業(yè)計算機人機交互系統(tǒng)，快速的節(jié)拍設(shè)計。
　　6.人機對話：控制系統(tǒng)能實現(xiàn)人、機對話，及時對生產(chǎn)過程進行必要干預。運行過程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
　　7.傳動系統(tǒng)：滾軸傳動，變頻可調(diào)
　　8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
　　9. 生產(chǎn)線安采用了的插板閥進行腔室隔斷，可以實現(xiàn)有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。
　　10.生產(chǎn)線采用了均勻進氣管結(jié)構(gòu)設(shè)計，氣流注入均勻平緩；
　　11.泵抽系統(tǒng)：擴散泵組或分子泵組+機械泵+羅茨泵
　　5）需求配套設(shè)施：

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成重大誤差。
? ? 光學監(jiān)控是高精密鍍膜的的監(jiān)控方式，這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當)。度的改進源于很多因素,但根本的原因是對光學厚度的監(jiān)控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長光學監(jiān)控系統(tǒng)，是采用間接測控，結(jié)合汪博士開發(fā)的光學監(jiān)控軟件，有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測波長。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。

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