3. 開維持泵、真空計(jì)電源，真空計(jì)檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機(jī)械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計(jì)開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)予抽，開前機(jī)和
高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時(shí)開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開關(guān)，延時(shí)、電源及保護(hù)燈亮，三分鐘后延時(shí)及保護(hù)燈滅，若后門未關(guān)好或水流繼電器有故障，保護(hù)燈會(huì)常亮。
3. 開高壓，高壓會(huì)達(dá)到10KV以上，調(diào)節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動(dòng)。 1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時(shí)，依次關(guān)高閥、前級(jí)、機(jī)械泵，這期間約需40分鐘。

回收二手電鍍廠生產(chǎn)線設(shè)備?；厥照婵斟兡C(jī)、回收CCZK-OGS光學(xué)鍍膜設(shè)備、二手多弧離子真空鍍膜機(jī)回收、二手回收連續(xù)磁控鍍膜生產(chǎn)線、二手CCZK-RC卷繞鍍膜機(jī)回收、二手回收車燈保護(hù)膜鍍膜設(shè)備、回收電阻蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)、回收二手磁控濺射鍍膜機(jī)流水線設(shè)備
離子鍍膜，一個(gè)精密的工藝過(guò)程，其核心是離子濺射鍍膜。對(duì)于導(dǎo)電靶，偏壓電源扮演了關(guān)鍵角色，采用直流電場(chǎng)的精密調(diào)控，確保陰極表面的電子被加速，進(jìn)而轟擊氣體分子，引發(fā)電離現(xiàn)象。這個(gè)過(guò)程中，電子被電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)，形成雪崩效應(yīng)，直至氣體被擊穿，形成穩(wěn)定的電離電流，進(jìn)而驅(qū)動(dòng)離子加速，撞擊靶材，將原子釋放并沉積在樣品表面，形成所需涂層。

偏壓電源，就像熒光燈中的核心組件，它通過(guò)高頻轉(zhuǎn)換電路，以單極性脈沖方式輸出。電源電壓的精細(xì)調(diào)整通過(guò)改變高頻轉(zhuǎn)換電路的輸入電壓實(shí)現(xiàn)，穩(wěn)壓性能高達(dá)1%。這種設(shè)計(jì)允許在工藝所需電壓的同時(shí)，通過(guò)調(diào)整脈沖寬度來(lái)控制工件的加熱效果，適用于各種涂層需求，從工具保護(hù)到裝飾美化。

發(fā)黑通常是由于過(guò)早氧化造成的。泛黃一般是因?yàn)殇X源中含有雜質(zhì)過(guò)多，一般純度應(yīng)在4 N或5N以上。無(wú)論是涂布機(jī)的真空度不達(dá)標(biāo)，都要達(dá)到10—7倍Pa。（不準(zhǔn)確）。涂敷物品的清洗不，表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理，溫度過(guò)高或過(guò)低。涂層項(xiàng)目的潛在設(shè)置不合理。真空擴(kuò)散泵油應(yīng)更換。調(diào)節(jié)蒸發(fā)源的溫度，不能太低或太高。如果電子束蒸發(fā)，電子束的轟擊位置也應(yīng)該調(diào)整。

1．在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開動(dòng)真空鍍膜機(jī)時(shí)，先開水管，工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。
2．在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。
3．在用電子槍鍍膜時(shí)，應(yīng)在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃，觀察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。
4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。
5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。
6．酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行，并要戴橡皮手套。
7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí)，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。
8．工作完畢應(yīng)斷電、斷水。

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源，通過(guò)PID控制循環(huán)驅(qū)動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過(guò)程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時(shí)，它會(huì)變得對(duì)溫度非常敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過(guò)程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對(duì)膜層造成重大誤差。
? ? 光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的監(jiān)控方式，這是因?yàn)樗梢愿乜刂颇雍穸?如果運(yùn)用得當(dāng))。度的改進(jìn)源于很多因素,但根本的原因是對(duì)光學(xué)厚度的監(jiān)控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長(zhǎng)光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，是采用間接測(cè)控，結(jié)合汪博士開發(fā)的光學(xué)監(jiān)控軟件，有效提高光學(xué)反應(yīng)對(duì)膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。

懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的卷繞控制要求的轉(zhuǎn)矩控制，以般采用直流驅(qū)動(dòng)，但是隨著交流驅(qū)動(dòng)技術(shù)的飛速發(fā)展，現(xiàn)在逐步采用交流永磁同步伺服電機(jī)或交流異步電機(jī)驅(qū)動(dòng)。丹佛斯FC302系列驅(qū)動(dòng)器具有伺服級(jí)的驅(qū)動(dòng)性能，驅(qū)動(dòng)交流異步電機(jī)也有實(shí)現(xiàn)平穩(wěn)的轉(zhuǎn)矩控制，為這個(gè)行業(yè)提供了一種易用的解決方案，用戶只需要設(shè)置幾個(gè)簡(jiǎn)單的參數(shù)，就能滿足實(shí)際生產(chǎn)需求，操作和調(diào)試也非常簡(jiǎn)便。
　　一、懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的傳動(dòng)結(jié)構(gòu)：
　　放卷轉(zhuǎn)向?yàn)檎?br /> 　　放卷轉(zhuǎn)向?yàn)樨?fù)
　　3驅(qū)動(dòng)懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的典型傳動(dòng)結(jié)構(gòu)，其中：
　　M1為冷卻輥，直徑恒定，由一臺(tái)FC302驅(qū)動(dòng)，冷輥的速度即為鍍膜的線速度。
　　M2為收卷輥，中心卷繞，直徑逐步變大，由一臺(tái)FC302驅(qū)動(dòng)，提供收卷張力。
　　M3為放卷輥，中心卷繞，直徑逐步變小，由一臺(tái)FC302驅(qū)動(dòng)，提供放卷張力。
　　冷卻輥和收卷輥的轉(zhuǎn)向是固定的，但是放卷輥由于卷筒卷繞方向不同，工作時(shí)有正、反兩種轉(zhuǎn)向，對(duì)應(yīng)反、正兩種轉(zhuǎn)矩。

　　真空鍍膜機(jī)傳動(dòng)系統(tǒng)的特點(diǎn)：
　　1.由于真空室狹小，無(wú)法安裝張力檢測(cè)裝置，所以收、放卷張力完全要靠收、放卷驅(qū)動(dòng)的電機(jī)直接控制。因此收、放卷驅(qū)動(dòng)器都工作于轉(zhuǎn)矩工作模式。對(duì)于較輕較薄的材料，收卷還有張力錐度功能。
　　2.由于工藝方面的原因，起主傳動(dòng)作用的冷卻輥上沒(méi)有壓輥，因此冷卻輥只能靠摩擦力帶動(dòng)薄膜；收、放卷張力相差較大時(shí)，薄膜很容易在冷卻輥上打滑。如何防止打滑是驅(qū)動(dòng)控制方面的難題。

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