全自動(dòng)滾鍍?cè)O(shè)備有更多的優(yōu)點(diǎn)如：
1、更換被鍍物時(shí)，不需要打掃料底，能隨心所欲改變前期處理、電鍍等時(shí)間，生產(chǎn)線仍然正常工作，不用停機(jī)、不用重新調(diào)試。
2、清洗、出光、鈍化等不用容器裝盛，而是用傳送帶輸送滑入，避免了相互污染，滾桶始終不出鍍液，倒料干凈，減小了鍍液帶出量。
3、節(jié)能10%、節(jié)電30%、節(jié)時(shí)50%、節(jié)水90%，節(jié)省勞動(dòng)力90%。
4、是同類產(chǎn)品價(jià)格的30%，占地面積小，大小滾鍍廠均可使用，日產(chǎn)5—100噸。
5、特制滾桶，無(wú)需開關(guān)門，電流大時(shí)也無(wú)滾桶印。
6、入滾桶自動(dòng)計(jì)量、自動(dòng)上下料、自動(dòng)甩干、自動(dòng)干燥包裝。
7、自動(dòng)化程度高，無(wú)需人員看護(hù)，噪聲低，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，經(jīng)久耐用。
8、鋅陽(yáng)極放置在滾桶中，電流不需通過(guò)孔眼傳導(dǎo)，直接作用被鍍物，因此節(jié)電效果十分明顯。
9、有吸水裝置，防止超量液體帶出。
10、送料小車有液體箱，可長(zhǎng)距離送料而不變質(zhì)。方便，鈍化時(shí)能調(diào)整液中、空中滯留時(shí)間。

在盛有電鍍液的鍍槽中，經(jīng)過(guò)清理和特殊預(yù)處理的待鍍件作為陰極，用鍍覆金屬制成陽(yáng)極，兩極分別與直流電源的負(fù)極和正極聯(lián)接。電鍍液由含有鍍覆金屬的化合物、導(dǎo)電的鹽類、緩沖劑、pH調(diào)節(jié)劑和添加劑等的水溶液組成。通電后，電鍍液中的金屬離子，在電位差的作用下移動(dòng)到陰極上形成鍍層。陽(yáng)極的金屬形成金屬離子進(jìn)入電鍍液，以保持被鍍覆的金屬離子的濃度[1]。在有些情況下，如鍍鉻，是采用鉛、鉛銻合金制成的不溶性陽(yáng)極，它只起傳遞電子、導(dǎo)通電流的作用。電解液中的鉻離子濃度，需依靠定期地向鍍液中加入鉻化合物來(lái)維持。電鍍時(shí)，陽(yáng)極材料的質(zhì)量、電鍍液的成分、溫度、電流密度、通電時(shí)間、攪拌強(qiáng)度、析出的雜質(zhì)、電源波形等都會(huì)影響鍍層的質(zhì)量，需要適時(shí)進(jìn)行控制。

電鍍電源經(jīng)歷了四個(gè)發(fā)展階段：
　　(1) 直流發(fā)電機(jī)階段這種電源耗能大、效率低、噪聲大．已經(jīng)被淘汰。
　　(2) 硅整流階段是直流發(fā)電機(jī)的換代產(chǎn)品，技術(shù)十分成熟，但效率低，體積大，控制不方便。目前，仍有許多企業(yè)使用這種電鍍電源。
　　(3) 可控硅整流階段是目前替代硅整流電源的主流電源，具有、體積小、調(diào)控方便等特點(diǎn)。隨著核心器件——可控硅技術(shù)的成熟與發(fā)展．該電源技術(shù)日趨成熟，已獲得廣泛應(yīng)用。
(4) 晶體管開關(guān)電源即脈沖電源階段脈沖電鍍電源是當(dāng)今為的電鍍電源，它的出現(xiàn)是電鍍電源的一次革命。這種電源具有體積小、、性能、紋波系數(shù)穩(wěn)定．而且不易受輸出電流影響等特點(diǎn)。脈沖電鍍電源是發(fā)展的方向，現(xiàn)已開始在企業(yè)中使用了。

電鍍?cè)O(shè)備生產(chǎn)線采用進(jìn)口帶剎車電機(jī)，故其行走平衡，剎車可靠，晃動(dòng)性少，加上采用電腦控制，使其可任意變換工藝流程及程序，可隨時(shí)變換電鍍種類及電鍍時(shí)間,滿足不同的零件電鍍不同的鍍種,該生產(chǎn)線適合于形狀大小不一，而又經(jīng)常變換產(chǎn)品的電鍍。

以前的工廠都配有很多的機(jī)器，因?yàn)橐慌_(tái)機(jī)器設(shè)置的材料直徑不一樣，切不同直徑的材料要拿到相應(yīng)的機(jī)器上對(duì)應(yīng)調(diào)整才能切出來(lái)?，F(xiàn)在的電鍍?cè)O(shè)備科方便了，它就在一臺(tái)機(jī)器上就能完成不同直徑材料的切割，它的技術(shù)含量高，人們空余根據(jù)自己的需求自己調(diào)節(jié)直徑，就在一臺(tái)電鍍?cè)O(shè)備上就能夠完成。 電鍍?cè)O(shè)備方便、簡(jiǎn)潔，而且它的價(jià)格也非常合理，適合了時(shí)代發(fā)展的需要，是人類生產(chǎn)力提高的表現(xiàn)。

電鍍電源電鍍電源是電鍍生產(chǎn)過(guò)程中重要的輔助設(shè)備。國(guó)內(nèi)大量應(yīng)用的還是硅整流器和可控硅整流器，分為調(diào)壓器調(diào)壓、磁飽和電抗器調(diào)壓及可控硅凋壓。電鍍用硅整流器和可控硅整流器都是低壓大電流，一般為12V(鍍鉻選用18V)，電流從100A至20000A都有可控硅調(diào)壓的硅整流器只有在負(fù)荷較高時(shí)渡形良好穩(wěn)流穩(wěn)壓、穩(wěn)定電流密度的電鍍電源也正在推廣應(yīng)用。

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