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由于 該爐的排氣口 13與氣流導向裝置20的各通氣孔2-3相連通，整個爐內的 一氧化硅與的混合氣體(包括坩堝支持器14下方的混合氣體)能通暢 地排出爐外，整個爐內不存在排氣死角，既有效地防止了一氧化硅氣體對 加熱器7和坩堝支持器14等石墨器件的腐蝕，還可有效防止雜質粉塵吸附 在這些石墨器件上，從而確保了該爐的使用壽命。氣流導向裝置20的一對 通氣孔2-3與該爐的一對排氣口 13相對設置，縮短了排氣管路的長度，利 于提高排氣效率。
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真空技術在冶金、化工、輕工、食品、醫(yī)藥等領域得到了十分廣泛的應用，然而在這些領域大都存在塵埃對真空系統(tǒng)的危害問題。為保護真空系統(tǒng)或真空泵不受粉塵和固體顆粒污染和損壞，管路中需配置真空除塵器和真空過濾器。它們可保護真空閥門不被阻塞，避免閥板關閉不嚴造成漏氣，保護測量壓力的真空規(guī)管不受污損，防止泵受損而工作失常等，對真空設備的凈化和平穩(wěn)、持續(xù)工作均很重要。除塵機理及過程從氣體中捕集分離粒子的除塵機理，主要有以下幾個方面:、重力氣流中的塵?？梢砸揽恐亓ψ匀怀两担瑥臍饬髦羞M行分離。由于塵粒的沉降速度一般較小，這個機理只適用于粗大的塵粒、離心力利用機械力來捕集分離含塵氣流中的粉塵，離心力除塵裝置是其中有效的除塵裝置。它對粒徑較小塵粒的分離捕集非常有效。含塵氣流作圓周運動時，分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，離線裝料技術在直拉法硅單晶生產中的應用\引言直拉法(CZ)生產單晶硅是目前制備單晶硅的主要方法。在單晶生產過程中,傳統(tǒng)裝料方法為爐前裝料,即,以人工方式在單晶爐前將固態(tài)多晶硅料一塊塊地從爐體外轉移到石英坩堝內,再進行合爐、真空檢漏[1]。整個過程非常緩慢,而且裝料過程中要避免硅料碎屑落入熱場內,裝料時間(清爐結束到合爐)約為2h,操作起來較繁瑣。此外,裝料工工作量不飽和,存在人力浪費現(xiàn)象;在車間內部裝料過程中涉及環(huán)節(jié)較多,硅料的潔凈度存在質量隱患,不能確保硅棒的產品質量[2]。隨著光伏市場競爭的日趨激烈,追求低成本和率成為每一個企業(yè)市場的逐勝之道。
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