金鹽回收中的壓擠壓技術(shù)
高壓處理電子廢料實現(xiàn)金屬解離：
設(shè)備參數(shù)
壓力：5-8 GPa（相當(dāng)于地核壓力）
沖頭速度：1-2 mm/s
模具材料：硬質(zhì)合金（HV>2000）
解離效果
物料 解離度 金裸露率
手機主板 95% 90%
CPU芯片 85% 75%
后續(xù)處理：
氣流分選（密度差異）
靜電分離（導(dǎo)電性差異）
優(yōu)勢：
無化學(xué)試劑添加
處理速度200 kg/h
金鹽回收中的選擇性化學(xué)鍍技術(shù)
化學(xué)鍍技術(shù)可在非導(dǎo)電基材上選擇性沉積金層，適用于電子廢料中微米級金線路的回收：
鍍液配方優(yōu)化
組分 濃度范圍 功能作用
氯金酸（HAuCl?） 1-3 g/L 金離子來源
還原劑（DMAB） 2-5 g/L 電子供體（E°=-1.18 V）
絡(luò)合劑（EDTA） 10-15 g/L 穩(wěn)定Au3?，抑制自發(fā)分解
pH調(diào)節(jié)劑 維持7.5-8.5 硼酸鈉緩沖體系
工藝特性
沉積速率：0.5-2 μm/h（40-60°C）
選擇性：通過光刻膠圖形化實現(xiàn)局部沉積（精度±5 μm）
鍍層性能：
電阻率2.3 μΩ·cm（接近體材料）
結(jié)合力>30 MPa（劃痕測試）
應(yīng)用案例：
日本日礦金屬處理廢棄FPC板，金回收率>98%
缺陷控制：鍍液壽命約8-10個金屬周轉(zhuǎn)（需定期過濾再生）
金鹽回收中的氧化技術(shù)
處理含氰廢水的深度氧化方案：
1. 臭氧催化氧化
催化劑：MnO?/Al?O?（比表面積180 m2/g）
動力學(xué)：
CN? + O? → CNO? + O?（k=3.2×103 M?1s?1）
終產(chǎn)物為CO?和N?（無二次污染）
2. 電化學(xué)氧化
陽極材料：BDD（摻硼金剛石）
操作條件：
電流密度100 A/m2
極板間距10 mm
處理效果：
CN?<0.1 mg/L（達(dá)標(biāo)排放）
能耗8 kWh/kg CN?
經(jīng)濟(jì)性對比
技術(shù) 投資成本($/t) 運行成本($/m3)
堿性氯化法 50,000 1.2
臭氧氧化 120,000 0.8
電化學(xué)氧化 80,000 0.6
金鹽回收廢料的來源與特征
金鹽回收原料主要來自五大渠道：
（1）電鍍廢液：含金1-15g/L，同時含Ni2?、Cu2?等雜質(zhì)，pH值8-12。典型組成為：
Au：3.2g/L
KCN：85g/L
有機添加劑：5-10g/L
（2）電子蝕刻廢液：微酸性（pH2-4），含Au3? 0.5-3g/L，F(xiàn)e3? 20-50g/L。SEM-EDS分析顯示存在AuCl??絡(luò)合物特征峰。
（3）廢棄催化劑：汽車三元催化劑中金負(fù)載量0.1-0.5wt%，與Pt、Pd形成合金相。BET比表面積120-180m2/g。
（4）珠寶加工廢料：含金鹽拋光液的金濃度0.05-0.3%，含SiO?磨料30-50%。
（5）醫(yī)療廢棄物：如廢棄的金鹽類藥物，Au含量0.5-2mg/支。
金鹽回收環(huán)保處理與安全管理
關(guān)鍵環(huán)保技術(shù)：
廢水處理
破氰工藝：
堿性氯化法：ORP>300mV，CN?<0.2mg/L
臭氧氧化：0.5-1.0g O?/g CN
重金屬去除：
硫化鈉沉淀：殘余Au<0.01mg/L
電絮凝：鋁電極，電流密度10A/m2
廢氣治理
氰化氫吸收：NaOH噴淋塔，效率>99.9%
汞齊化裝置：處理含汞金鹽廢氣
固廢處置
危廢代碼：HW17（含氰廢物）
固化處理：水泥固化體強度>10MPa
安全規(guī)范：
氰化物車間：設(shè)置HCN檢測報警（TLV=10ppm）
應(yīng)急洗眼器：服務(wù)半徑15m內(nèi)配置
金鹽回收純化與回收技術(shù)
高鹽制備工藝：
化學(xué)精制
王水溶解：HCl:HNO?=3:1，溫度70-80℃
還原劑選擇：
SO?：純度99.99%，但需尾氣處理
抗壞血酸：環(huán)保型，成本較高
電解精煉
電解液組成：HAuCl? 80-120g/L，HCl 80-150g/L
添加劑：明膠0.1-0.3g/L改善結(jié)晶
區(qū)域熔煉
溫度梯度：150℃/cm
通過次數(shù)：10-15次
終純度：99.999-99.9999%
質(zhì)量控制點：
痕量元素：ICP-MS檢測（ppt級）
晶體形貌：SEM觀察（避免枝晶）
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