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所在地 | 廣東深圳光明新區(qū)公明 |
11年
真空是支撐真空鍍膜機(jī)運(yùn)行的環(huán)境,尤其是需要高真空度的設(shè)備。通常,我們需要達(dá)到高的真空度,而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外,真空鍍膜設(shè)備的操作還有一點(diǎn),就是工件的脫氣。有些工件內(nèi)部有大量氣體和水分,在設(shè)備加熱時(shí)會(huì)排入真空室,降低真空度。更有甚者,有些氣體含有有毒成分,直接破壞真空室內(nèi)部機(jī)械結(jié)構(gòu),導(dǎo)致設(shè)備無(wú)法正常運(yùn)行。
與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比,真空鍍膜屬于干法鍍膜,其主要方法有以下幾種:
1.真空蒸發(fā)
其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華,蒸發(fā)的離子流直接射向基片,在基片上沉積固體薄膜。
2.濺射涂層
濺射鍍膜是一種真空條件,在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過(guò)惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg
3.離子電鍍法
即干式螺桿真空泵制造商已經(jīng)推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的,所以具有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下,工作氣體或蒸發(fā)物質(zhì)(膜材料)通過(guò)氣體放電被部分電離,蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過(guò)程中,襯底總是受到高能粒子的轟擊,這使得它非常干凈。
4.真空卷繞涂層
真空鍍膜是通過(guò)物理氣相沉積在柔性基板上進(jìn)行連續(xù)鍍膜的技術(shù),以實(shí)現(xiàn)柔性基板的某些功能性和裝飾性。
在檢漏過(guò)程中,為了做好檢漏工作,有必要注意一些問(wèn)題。
,檢查虛漏是否仍為實(shí)漏,因?yàn)楣ぜ?shù)據(jù)加熱后會(huì)出現(xiàn)不同程度的氣體,有可能被誤認(rèn)為是從外部流出的氣體,這就是虛漏,要消除這種情況。
第二,測(cè)試真空室的氣密性功能,確保氣密性功能符合要求。
三、檢查漏孔的大小、形狀、方位、漏速,編制解決方案并實(shí)施。
四、得出檢測(cè)儀器檢漏的檢出率和靈敏度,要檢查刻度的泄漏情況,防止一些泄漏孔被疏忽,提高泄漏檢測(cè)的準(zhǔn)確性。
五、掌握檢漏儀的反應(yīng)時(shí)間和消除時(shí)間,把握好時(shí)間,檢漏儀操作到位,時(shí)間少,檢漏功能一定差,時(shí)間長(zhǎng),浪費(fèi)檢漏氣和人工電。
六、還要防止泄漏堵塞,有時(shí)由于操作失誤,在檢漏過(guò)程中,一些灰塵或液體將泄漏堵塞,認(rèn)為孔的方向沒(méi)有泄漏,但當(dāng)由于內(nèi)外壓差進(jìn)展或其他原因?qū)е滦孤┛孜炊氯麜r(shí),泄漏仍在那里。
所屬分類:設(shè)備回收/化工設(shè)備回收
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