離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對(duì)于總體滲氮處理時(shí)間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結(jié)構(gòu)件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當(dāng)比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過(guò)輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復(fù)合膜等，顯微硬度高達(dá)HV2000--2500。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源，通過(guò)PID控制循環(huán)驅(qū)動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過(guò)程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時(shí)，它會(huì)變得對(duì)溫度非常敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過(guò)程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對(duì)膜層造成重大誤差。
? ? 光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的監(jiān)控方式，這是因?yàn)樗梢愿乜刂颇雍穸?如果運(yùn)用得當(dāng))。度的改進(jìn)源于很多因素,但根本的原因是對(duì)光學(xué)厚度的監(jiān)控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長(zhǎng)光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，是采用間接測(cè)控，結(jié)合汪博士開發(fā)的光學(xué)監(jiān)控軟件，有效提高光學(xué)反應(yīng)對(duì)膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。

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