在紫外光照射下,吸收了光能量的光引發(fā)劑分解成游離基引發(fā)單體進(jìn)行光聚合反應(yīng),形成不溶于稀堿的溶液的體型分子。要使每種干膜聚合效果好,就有一個佳的曝光量。從光能量的定義公式可知,總曝光量E是光強度I和曝光時間T的乘積。若光強度I不變,則曝光時間T就是直接影響曝光總量的重要因素。曝光不足時,由于聚合不,在顯影過程中,膠膜溶脹變軟,導(dǎo)致線條不清晰甚至膜層脫落,造成膜與銅結(jié)合不良;若曝光過度,會造成顯影困難,也會在電鍍過程中產(chǎn)生起翹剝離,形成滲鍍。所以,解決的工藝措施就是嚴(yán)格控制曝光時間,每種類型的干膜在起用時應(yīng)按工藝要求進(jìn)行測量。如采用瑞士頓21級光楔表,級差0.15,以控制6-9級為宜。
當(dāng)曝光過度時,紫外光透過照相底片上透明部分并產(chǎn)生折射、衍射現(xiàn)象,照射到照相底片不透明部分下的干膜處,使本來不應(yīng)該發(fā)生光聚合反應(yīng)的該部分干膜,被部分曝光后發(fā)生聚合反應(yīng),顯影時就會產(chǎn)生余膠和線條過細(xì)的現(xiàn)象。因此,適當(dāng)?shù)目刂破毓鈺r間是控制顯影效果的重要條件。
反轉(zhuǎn)顯影中,感光鼓與色粉電荷極性相同。顯影時,通過感光鼓和顯影輥之間的電場作用,碳粉被吸到感光鼓曝光區(qū)域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。這樣感光鼓表面不可見的靜電潛像,就變成了可見的與原稿濃淡一致的不同灰度層次的色粉圖像。在靜電復(fù)印機中,色粉的帶電通常是通過色粉與載體的摩擦來獲得的,名稱后色帶電極性與載體帶電極性相反(單組份顯影劑中,僅有碳粉,碳粉與出粉刀摩擦帶電)。
干膜為一種含羧基的有機物,也會含有一些金屬離子(如ca2+和mg2+),傳統(tǒng)的是用碳酸根去作用羧基,去除有機物,但是缺陷在于碳酸根容易反應(yīng)產(chǎn)生沉淀(如碳酸鈣和碳酸鎂),粘連到板子上,粘上去的這塊區(qū)域在后續(xù)的去膜中去不掉,被當(dāng)作線路了(本來這塊不是線路),造成短路。
顯影操作一般要在顯影機中進(jìn)行,控制好顯影液的溫度、傳送速度、噴淋壓力等顯影參數(shù),能夠得到更好的顯影效果。顯影是把遮光的部分用顯影溶液去掉焊盤上的阻焊。顯影用的溶液是百分之一的無水碳酸鈉,液溫通常在三十至三十五攝氏度之間。在正式顯影之前,要把顯影機升溫,使溶液達(dá)到預(yù)定溫度,從而達(dá)到佳的顯影效果。
正確的顯影時間通過顯影點來確定,顯硬點保持在顯影段總長度的一個恒定百分比上,如果顯影點離顯影段出口太近,未曝光的阻焊層得不到充分的顯影會造成未曝光阻焊層的殘余可能留在板面上,如果顯影點離顯影段的入口太近,被曝光的阻焊層由于與顯影液過長時問的接觸,可能被浸蝕而變得發(fā)毛,失去光澤。通常顯影點控制在顯影段總長度的40%-60%之內(nèi),另外,要注意在顯影時,很容易將板子劃傷,通常解決的方法,是在顯影時,放板子操作人員要戴手套,對板子要輕拿輕放,還有是印制板的尺寸大小不一,所以,盡量尺寸差不多大的一起放,在放板子時,板子與板子之間要保持一定間距,以防止傳動時,板子擁擠,造成“卡板”等現(xiàn)象。顯完影后,將印制板放在木制托架上。
顯影液的濃度、溫度和顯影時間都是非常重要的。如果濃度太高或溫度太高,顯影液會過于強烈地溶解光敏膠層,導(dǎo)致電路圖案變形或失真。如果濃度太低或溫度太低,顯影液則無法有效地溶解未曝光的部分,導(dǎo)致電路圖案不清晰或不完整。因此,顯影液的濃度、溫度和顯影時間嚴(yán)格控制,以確保 PCB 的質(zhì)量和穩(wěn)定性。
調(diào)整膠輥壓力
根據(jù)印版的厚度范圍調(diào)節(jié)各膠輥之間的壓力,無竄液或竄液小
顯影/水洗、水洗/涂膠、涂膠/烘干,版每次從兩膠輥出來都是干凈的
調(diào)節(jié)上膠輥之間的壓力,可調(diào)節(jié)上膠的厚薄,上膠
膠輥的硬度適應(yīng)于印版,在上述要求的情況下,壓力盡可能小,壓力過大,增大顯影機負(fù)載,并易卡版
日常保養(yǎng)和維護(hù)
1、顯影液循環(huán)、膠液循環(huán)、水循環(huán)順暢,無堵塞;
2、定期更換顯影液,同時清洗顯影機(建議每天清洗一次);
3、定期更換過濾芯,一般每周更換一次(建議使用100u濾芯);
4、定期更換保護(hù)膠并清洗保護(hù)膠系統(tǒng)(建議每天一次);
5、每天擦洗膠輥(可能干凈的軟布沾顯影液擦冼);
6、定期清洗膠輥,各膠輥之間壓力均勻(每周一次);
7、定期清洗加熱段導(dǎo)軌(每周一次);
8、整機清潔,表面不殘留顯影液或其它化學(xué)制劑
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