真空度低解決方法:清潔真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導輥;檢查抽真空系統(tǒng);降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體 解決方法:薄膜預干燥;延長抽真空時間。 ③噴鋁過多解決方法:提高車速;降低蒸發(fā)舟電流;降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內(nèi)有雜質(zhì) 解決方法:清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化 解決方法:更換蒸發(fā)舟。 補充: 以上不知道有沒有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問題我就不知道了,不好意思。 追問: 不好意思,我沒有說你才疏學淺的意思- -#,我意思說就像發(fā)黃的原因有:1, 真空度過低;延長抽真空時間 2, 鍍膜時有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3,鍍膜時間過長;噴鋁過多 4,鍍膜電流過高
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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。?
對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。
在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi),也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。?
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。
1.在真空鍍膜機運轉正常情況下,開動真空鍍膜機時,先開水管,工作中應隨時注意水壓。
2.在離子轟擊和蒸發(fā)時,應特別注意高壓電線接頭,不得觸動,以防觸電。
3.在用電子槍鍍膜時,應在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃,觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線侵害人體。
4.鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間,應安裝通風吸塵裝置,及時排除有害粉塵。
5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。
6.酸洗夾具應在通風裝置內(nèi)進行,并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或堿洗槽中時,應輕拿輕放,不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。
8.工作完畢應斷電、斷水。
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