真空電鍍通過在真空環(huán)境下將金屬或化合物氣化（如濺射、蒸發(fā)）后沉積于基材表面，常見于裝飾鍍層（如手表、五金件）、功能鍍層（如硬質(zhì)涂層、導(dǎo)電層）生產(chǎn)。

廢渣主要來源
靶材損耗：濺射過程中未沉積的金屬 / 陶瓷靶材粉末（如鈦、鉻、鋯、氮化鈦等）；
設(shè)備維護(hù)：真空腔體內(nèi)殘留的沉積廢料、更換的靶材邊角料；
工藝副產(chǎn)物：反應(yīng)氣體（如 N?、Ar、CH?）與靶材反應(yīng)生成的固態(tài)顆粒物（如碳化物、氮化物）；
廢氣處理殘渣：尾氣凈化裝置（如活性炭吸附、過濾器）捕獲的金屬粉塵。

典型場景舉例
電子廢料回收：線路板、芯片中的金、銀、鈀通過酸浸→萃取→還原→電解精煉，得到屬。
電鍍廢渣回收：含金銀的電鍍污泥經(jīng)破碎→氰化浸出→鋅粉置換→電解，提取金銀。
汽車催化劑回收：含鉑、鈀、銠的催化劑經(jīng)破碎→酸浸或堿熔→萃取分離→還原，得到鉑族金屬。

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