電鍍設備及超聲波清洗設備的研發(fā)、設計、制造、銷售和服務為一體，電鍍是一種電化學過程，也是一種氧化還原過程.電鍍的基本過程是將零件浸在金屬鹽的溶液中作為陰極，金屬板作為陽極，接直流電源后，在零件上沉積出所需的鍍層。
例如：鍍鎳時，陰極為待鍍零件，陽極為純鎳板，在陰陽極分別發(fā)生如下反應：
陰極(鍍件)：Ni2++2e→Ni (主反應)
2H++2e→H2↑ (副反應)
陽極(鎳板)：Ni －2e→Ni2+ (主反應)
4OH-－4e→2H2O+O2+4e (副反應)
不是所有的金屬離子都能從水溶液中沉積出來，如果陰極上氫離子還原為氫的副反應占主要地位，則金屬離子難以在陰極上析出.根據(jù)實驗，金屬離子自水溶液中電沉積的可能性，可從元素周期表中得到一定的規(guī)律。
陽極分為可溶性陽極和不溶性陽極，大多數(shù)陽極為與鍍層相對應的可溶性陽極，如：鍍鋅為鋅陽極，鍍銀為銀陽極，鍍錫-鉛合金使用錫-鉛合金陽極.但是少數(shù)電鍍由于陽極溶解困難，使用不溶性陽極，如酸性鍍金使用的是多為鉑或鈦陽極.鍍液主鹽離子靠添加配制好的標準含金溶液來補充.鍍鉻陽極使用純鉛，鉛-錫合金，鉛-銻合金等不溶性陽極。
電鍍設備工藝要求
1、鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應有良好的結合力。
2、鍍層應結晶細致、平整、厚度均勻。
3、鍍層應具有規(guī)定的厚度和盡可能少的孔隙。
4、鍍層應具有規(guī)定的各項指標，如光亮度、硬度、導電性等。
5、電鍍時間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
6、環(huán)境溫度為-10℃～60℃。
7、輸入電壓為220V±22V或380V±38V。
8、水處理設備大工作噪聲應不大于80dB(A)。
9、相對濕度(RH)應不大于95%。
10、原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。
電鍍技術又稱為電沉積,是在材料表面獲得金屬鍍層的主要方法之一。是在直流電場的作用下，在電解質(zhì)溶液（鍍液）中由陽極和陰極構成回路，使溶液中的金屬離子沉積到陰極鍍件表面上的過程; 電流效率 ：用于沉積金屬的電量占總電量的比稱為電鍍的電流效率。
分散能力：鍍液的分散能力是指一定的電解條件下使沉積金屬在陰極零件表面布均勻的能力。
合金電鍍：兩種或兩種以上金屬離子在陰極上共沉積形成均勻細致鍍層的過程叫做合金電鍍（一般而言其小組分應大于1%）。
整平能力：整平能力（即微觀分散能力）是指在金屬表面上形成鍍層時，鍍液所具有的能使鍍層的微觀輪廓比基體表面更平滑的能力。它表達了基體金屬的粗糙度比較小，波穴的深度小于0.5mm，波峰與波谷的距離很小的表面上鍍層分布的均勻性。
針孔或麻點：氫氣呈氣泡形式粘附在陰極表面上，阻止金屬在這些部位沉積，它只能沉積在氣泡的周圍，如果氫氣泡在整個電鍍過程中一直停留在陰極表面，則鍍好的鍍層就會有空洞或貫通的縫隙；若氫氣泡在電鍍過程中粘附得不牢固，而是間歇交替地逸出和粘附，那么這些部位將形成淺坑或點穴，在電鍍工業(yè)中通常稱它為針孔或麻點。
鼓泡：電鍍以后，當周圍介質(zhì)的溫度升高時，聚集在基體金屬內(nèi)的吸附氫會膨脹而使鍍層產(chǎn)生小鼓泡，嚴重地影響著鍍層的質(zhì)量。這種現(xiàn)象在電鍍鋅、鎘、鉛等金屬時尤為明顯。
覆蓋能力：覆蓋能力（或深鍍能力）也是鍍液的一個重要性能指標，是指在一定的電解條件下使沉積金屬在陰極零件表面全部覆蓋的能力，即在特定條件下于凹槽或深孔中沉積金屬鍍層的能力，它是指鍍層在零件布的完整程度。
氫脆：氫離子在陰極還原后，一部分形成氫氣逸出，一部分以原子氫的狀態(tài)滲入基體金屬（尤其是高強度金屬材料）及鍍層中，使基體金屬及鍍層的韌性下降而變脆，這種現(xiàn)象叫做“氫脆”。
高頻電鍍設備是一種非常昂貴的設備，高頻電鍍設備的分類方法主要從滑環(huán)原理方面來分類的，從電鍍原理可知，電鍍電源一定是直流電源或脈沖電源。各類鍍槽對電源的要求也不太相同，電鍍時滑環(huán)的電流、電壓的應控制在一定的誤差范圍內(nèi)。
水電鍍工藝是指在電鍍流程中需要對電鍍鍍件進行漂洗工序的電鍍類型。電鍍電源主要是將工頻交流電變換為不同電壓、頻率和波形的直流電設備。在晶閘管整流器中主要應用“整流”技術，在高頻開關電源中既應用“整流”技術又應用“逆變”技術。
鎢是屬于有色金屬，也是重要的戰(zhàn)略金屬，鎢礦在古代被稱為“重石”。鎢礦床一般伴隨著花崗質(zhì)巖漿的活動而形成。經(jīng)過冶煉后的鎢是銀白色有光澤的金屬，熔點，硬度很大。
有空氣存在的條件下，熔融堿可以把鎢氧化成鎢酸鹽，在有氧化劑（NaNO3、NaNO2、KClO3、PbO2）存在的情況下，生成鎢酸鹽的反應更猛烈。高溫下能與氯、溴、碘、碳、氮、硫等化合，但不與氫化合。
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