真空度低解決方法：清潔真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導輥；檢查抽真空系統(tǒng)；降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體 解決方法：薄膜預干燥；延長抽真空時間。 ③噴鋁過多解決方法：提高車速；降低蒸發(fā)舟電流；降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內(nèi)有雜質(zhì) 解決方法：清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化 解決方法：更換蒸發(fā)舟。 補充： 以上不知道有沒有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問題我就不知道了，不好意思。 追問： 不好意思，我沒有說你才疏學淺的意思- -#，我意思說就像發(fā)黃的原因有：1, 真空度過低;延長抽真空時間 2, 鍍膜時有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3，鍍膜時間過長；噴鋁過多 4，鍍膜電流過高
離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結構件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學氣相沉積設備與技術(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。
現(xiàn)場實際運行證明丹佛斯FC302驅(qū)動器+MCO305運動控制器的解決方案完夠滿足真空鍍膜機的卷繞控制要求。整機加減速速度超過原來的控制方式，大大減少了原材料的浪費?？刂葡到y(tǒng)調(diào)試和參數(shù)設置都比較方便。令客戶滿意的是電機可以采用比較經(jīng)濟的交流異步電機，在張力控制精度要求更高的場合才需要升級使用交流永磁同步電機。由于FC302既能驅(qū)動異步電機，又能驅(qū)動同步電機，系統(tǒng)升級時只需簡單地更換電機即可。
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