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大直徑硅單晶的制備與數(shù)值分析\大直徑硅單晶是微電子工業(yè)的基礎(chǔ)材料,廣泛應(yīng)用于集成電路備件和硅片制造領(lǐng)域,是現(xiàn)今信息社會(huì)的基石。根據(jù)半導(dǎo)體設(shè)備材料產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)的報(bào)告,大直徑硅單晶的需求依然旺盛,450mm硅單晶要繼續(xù)開(kāi)發(fā)研究。當(dāng)前主流集成電路設(shè)備用部件急需400mm硅單晶并提出低成本的要求,開(kāi)發(fā)400mm硅單晶和研究晶體制備的工藝過(guò)程,無(wú)疑具有重要的理論意義和現(xiàn)實(shí)需求。同時(shí),開(kāi)發(fā)下一代450mm集成電路用硅晶體、研究外加磁場(chǎng)對(duì)改善晶體質(zhì)量的作用,對(duì)于我國(guó)未來(lái)制造450mm硅片具有重要的戰(zhàn)略意義。藍(lán)寶石長(zhǎng)晶爐回收，多晶硅鑄錠爐回收，提拉式長(zhǎng)晶爐回收，多晶長(zhǎng)晶爐回收，臥式長(zhǎng)晶爐回收，拉式單晶爐、收購(gòu)直拉式單晶爐-85型/90型/95型/100型種種整套單晶回收提爐裝備、分子泵回收，真空泵回收，真空流量計(jì)回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，單晶爐真空系統(tǒng)的除塵技術(shù)為便于分析研究起見(jiàn)，將整個(gè)除塵過(guò)程分為有聯(lián)系而又有區(qū)別的如下三個(gè)過(guò)程。捕集分離過(guò)程該過(guò)程可分為捕集推移階段和分離階段。 捕集推移階段　均勻混合或懸浮在氣體中的粉塵進(jìn)入除塵器的除塵空間，根據(jù)不同的除塵器類型經(jīng)受不同的外力作用，將粉塵推移到分離界面。隨著粉塵向分離界面推移，濃度也越來(lái)越大，故捕集推移階段實(shí)質(zhì)也是粉塵濃縮的階段。分離階段　高濃度的塵流向分離界面以后，有兩種機(jī)理在起作用：氣體運(yùn)載粉塵的能力將達(dá)到極限狀態(tài)，懸浮與沉降這對(duì)矛盾中，沉降成為主要方面，通過(guò)沉降，粉塵從氣體中分離出來(lái)。極限狀態(tài)的影響因素一般與氣流速度及邊壁的邊界條件有關(guān)。

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提拉式單晶爐在節(jié)能減排方面的主要目標(biāo)包括，非化石能源占一次能源消費(fèi)比重達(dá)到11.4%，單位國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總能源消耗降低16%，單位國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總值化碳排放降低17%。要達(dá)到這樣的目標(biāo)，需要調(diào)用一切有效的手段，而光伏發(fā)電無(wú)疑是一種的選擇?？v觀能源利用現(xiàn)狀，以及為實(shí)現(xiàn)“十一五”節(jié)能減排目標(biāo)所作出的努力，在未來(lái)的節(jié)能減排目標(biāo)上仍面臨著重大的挑戰(zhàn)。

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