碘化銠回收，廢化工設備拆解中的銠回收
石化反應釜襯里（含Rh 0.1-1%）的拆解技術要點：
激光切割：避免機械破碎導致的粉塵損失
表面剝離：高壓水射流（350MPa）去除基層金屬
真空熱解：600℃下使Rh涂層與基體分離
德國BASF的自動化拆解線，銠回收率從傳統(tǒng)75%提升至93%
碘化銠回收，微生物冶金在低品位礦中的應用
處理含銠尾礦（0.5-3g/t）的生物浸出技術：
菌種選擇：嗜酸硫桿菌（Acidithiobacillus）與鐵氧化菌混合培養(yǎng)
浸出條件：pH=1.5，F(xiàn)e3?濃度5g/L，浸出周期60天
富集方法：活性炭吸附-焚燒工藝
南非AngloPlat的生物堆浸項目，率達22:1，比傳統(tǒng)氰化法環(huán)保性提升90%
碘化銠回收，火法冶金在碘化銠回收中的應用
火法冶金適用于高含量碘化銠廢料（如電極涂層）。將物料與助熔劑（Na?CO?）混合，在1200℃電弧爐中熔煉，銠以金屬形式沉降，碘轉(zhuǎn)化為氣體（用NaOH溶液吸收）。此方法處理量大（日處理1-5噸），但能耗高（每噸耗電3000 kWh），且銠回收率僅85-90%。改進方向包括等離子體熔煉（提高溫度至1500℃）或添加碳粉增強還原性。火法尤其適合處理含有機物的廢催化劑，燃燒可同步去除載體活性炭。
碘化銠回收，熔鹽電解精煉高純銠
對純度要求≥99.999%的領域（半導體靶材），采用：
電解體系：RhCl?-LiCl-KCl熔鹽（450℃）
陰極電流密度：50-100 A/m2
陽極雜質(zhì)控制：銀網(wǎng)隔膜阻擋Pd/Pt遷移
日本田中貴金屬的熔鹽電解車間，年產(chǎn)3噸5N高純銠，雜質(zhì)總量<1ppm
碘化銠回收，電子廢料中碘化銠的回收技術
電子行業(yè)產(chǎn)生的廢料（如印刷電路板鍍層、半導體電極）通常含有微量碘化銠（10–500 ppm）?；厥招栊形锢矸诌x（如渦流分選、靜電分離）富集貴金屬，再采用濕法處理：
硝酸浸出：在60℃下溶解基底金屬（Cu、Ni），銠留在殘渣中。
王水精煉：溶解銠后通過氯化銨沉淀（(NH?)?[RhCl?]）純化。
日本DOWA集團開發(fā)的連續(xù)離心萃取系統(tǒng)，可處理含Rh 50 ppm的電子廢液，回收率>97%，純度達99.9%。
碘化銠回收，電解回收碘化銠的優(yōu)化工藝
電解法可直接從含銠廢液中沉積金屬銠，關鍵參數(shù)包括：
陰極材料：鈦網(wǎng)或鉑電極（氫過電位高）。
電解液組成：Rh3?濃度>5 g/L，pH 1.5–2.5。
電流密度：100–200 A/m2（過高會導致粉末狀沉積）。
德國Heraeus的脈沖電解技術使銠鍍層致密度提高30%，電流效率達90%，能耗降至8 kWh/g Rh。
碘化銠回收，超導磁選在微細粒銠富集中的突破
針對<10μm含銠顆粒的分離技術：
超導磁體：5T場強下，F(xiàn)e?O?磁種與Rh的復合體捕獲效率>99%
微泡浮選：50μm氣泡負載磁種-Rh聚團，上浮速率提高3倍
智能分選：XRT透射識別+氣槍噴射，純度達98.5%
芬蘭Outotec的工業(yè)試驗表明，處理尾礦品位0.8g/t時，回收率從傳統(tǒng)35%躍升至78%
碘化銠回收，銠-碘體系相圖指導回收
根據(jù)Rh-I相圖（見圖表）：
低溫區(qū)（<200℃）：穩(wěn)定存在RhI?，適合濕法處理
中溫區(qū)（200-400℃）：分解為RhI?+ I?，可熱解法提純
高溫區(qū)（>600℃）：完全分解為金屬銠，適合火法冶煉
美國NIST的相圖數(shù)據(jù)庫為工藝溫度選擇提供關鍵依據(jù)
航天材料中碘化銠中銠回收的再生利用
火箭發(fā)動機涂層（Rh/Ta合金）的特殊回收工藝：
酸混溶解：HF-HNO?（1:3）在-10℃低溫溶解避免Ta鈍化
梯度萃?。合扔肕IBK萃Ta，再用Aliquat 336萃Rh
等離子噴涂：再生Rh粉直接用于新涂層制備
NASA的閉環(huán)回收系統(tǒng)使航天級銠復用成本降低70%
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