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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。?

對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。

在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒有任何障礙。?

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長(zhǎng)的控制也比較一般。

真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水，來(lái)確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定，所以會(huì)選擇使用水冷式冷水機(jī)來(lái)作為真空鍍膜加工冷卻設(shè)備。

一 真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備冷水機(jī)的作用

真空鍍膜加工過(guò)程中，真空鍍膜機(jī)作為主要設(shè)備，工作過(guò)程中有高頻電流過(guò)程，電導(dǎo)會(huì)在反復(fù)過(guò)程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起，需要冷卻設(shè)備及時(shí)地進(jìn)行冷卻，避免設(shè)備部件損壞，影響使用壽命；另外，真空鍍膜電鍍液需要根據(jù)電鍍產(chǎn)品不同進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)，并保持相對(duì)恒溫，反復(fù)鍍膜會(huì)造成鍍液溫度升高，同樣需要冷卻設(shè)備來(lái)準(zhǔn)確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中，根據(jù)真空鍍膜加工的實(shí)際需求，選用相應(yīng)規(guī)格的冷水機(jī)設(shè)備來(lái)進(jìn)行、穩(wěn)定的溫度控制調(diào)節(jié)是經(jīng)濟(jì)有效的解決方案。

現(xiàn)場(chǎng)實(shí)際運(yùn)行證明丹佛斯FC302驅(qū)動(dòng)器+MCO305運(yùn)動(dòng)控制器的解決方案完夠滿足真空鍍膜機(jī)的卷繞控制要求。整機(jī)加減速速度超過(guò)原來(lái)的控制方式，大大減少了原材料的浪費(fèi)。控制系統(tǒng)調(diào)試和參數(shù)設(shè)置都比較方便。令客戶滿意的是電機(jī)可以采用比較經(jīng)濟(jì)的交流異步電機(jī)，在張力控制精度要求更高的場(chǎng)合才需要升級(jí)使用交流永磁同步電機(jī)。由于FC302既能驅(qū)動(dòng)異步電機(jī)，又能驅(qū)動(dòng)同步電機(jī)，系統(tǒng)升級(jí)時(shí)只需簡(jiǎn)單地更換電機(jī)即可。

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