江蘇廣陵控制柜回收 江蘇廣陵多晶硅鑄錠爐回收
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一種實(shí)用的單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)\前言半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體工業(yè)的基礎(chǔ)材料 ,在半導(dǎo)體材料中用量和用途廣的是半導(dǎo)體硅。當(dāng)今 95 %以上的半導(dǎo)體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路。生產(chǎn)集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結(jié)晶生長(zhǎng)開(kāi)始時(shí) ,用低速提拉、生長(zhǎng)過(guò)程均速提拉的辦法制成的。提拉速度的控制性能將直接影響到晶體的質(zhì)量。當(dāng)今 ,隨著 IT產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展 ,單晶硅生產(chǎn)市場(chǎng)需求劇,研制一種滿足工藝要求、低成本的提拉速度控制系統(tǒng)具有重要的實(shí)際意義。藍(lán)寶石長(zhǎng)晶爐回收，多晶硅鑄錠爐回收，提拉式長(zhǎng)晶爐回收，多晶長(zhǎng)晶爐回收，臥式長(zhǎng)晶爐回收，拉式單晶爐、收購(gòu)直拉式單晶爐-85型/90型/95型/100型種種整套單晶回收提爐裝備、分子泵回收，真空泵回收，真空流量計(jì)回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，單晶爐真空系統(tǒng)的除塵技術(shù)為便于分析研究起見(jiàn)，將整個(gè)除塵過(guò)程分為有聯(lián)系而又有區(qū)別的如下三個(gè)過(guò)程。捕集分離過(guò)程該過(guò)程可分為捕集推移階段和分離階段。 捕集推移階段　均勻混合或懸浮在氣體中的粉塵進(jìn)入除塵器的除塵空間，根據(jù)不同的除塵器類型經(jīng)受不同的外力作用，將粉塵推移到分離界面。隨著粉塵向分離界面推移，濃度也越來(lái)越大，故捕集推移階段實(shí)質(zhì)也是粉塵濃縮的階段。分離階段　高濃度的塵流向分離界面以后，有兩種機(jī)理在起作用：氣體運(yùn)載粉塵的能力將達(dá)到極限狀態(tài)，懸浮與沉降這對(duì)矛盾中，沉降成為主要方面，通過(guò)沉降，粉塵從氣體中分離出來(lái)。極限狀態(tài)的影響因素一般與氣流速度及邊壁的邊界條件有關(guān)。

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用于熔化硅料的外部化料器7，所述外部化料器7的和加料坩堝62相連通，所述外部化料器7的底端和主爐室坩堝21相連通，以便將硅料加加料坩堝62后，硅料漏外部化料器7后被外部化料器7熔化，被熔化后的硅料流主爐室坩堝21內(nèi)。具體地，外部加料器6和外部化料器7之間設(shè)置有旋閥64，以便通過(guò)旋閥64控制外部加料器6和外部化料器7之間是否連通，所述外部化料器包括裝料器71、化料器坩堝72和用于給化料器坩堝72加熱以便硅料熔化的熱場(chǎng)73，所述裝料器71和加料坩堝62相連通，所述化料器坩堝72和裝料器71相連通，

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