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在簡易隔離式偏壓電源設(shè)計中，非對稱半橋反激電路是關(guān)鍵。它通過同步降壓電路提供隔離電源，類似于同步降壓調(diào)節(jié)器的工作原理。輸入電壓驅(qū)動的場效應(yīng)管(FET)驅(qū)動電感電容濾波器，隨后通過分壓器和誤差放大器的協(xié)同作用，調(diào)整濾波器輸出，保持DC電壓穩(wěn)定。特別之處在于，電感電路中的耦合繞組和二極管設(shè)計巧妙地解決了負載電壓調(diào)節(jié)的難題，通過二極管的直流電壓調(diào)整，提升了負載調(diào)節(jié)的精度。如果采用場效應(yīng)管替代，性能將進一步提升。

總結(jié)起來，真空多弧離子鍍膜機的偏壓電源是一個精密調(diào)控的系統(tǒng)，它通過復(fù)雜的電路設(shè)計，確保了離子的加速和沉積過程，從而實現(xiàn)的涂層工藝。無論是直流還是脈沖電源，每一環(huán)節(jié)都對終的鍍膜效果有著至關(guān)重要的影響。

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抽空時間相同，而真空度偏低，這時候關(guān)閉主閥，如真空計指針很快下降，多數(shù)情況是真空室漏，應(yīng)先查出漏點。如真空計指針下降很慢，多數(shù)情況是真空機組抽氣能力不夠，查找真空泵及閥門看哪里出現(xiàn)泄漏，或是擴散泵油污染或氧化；或前級管路密封不好，泵油不足；或泵油乳化，軸封漏油等。漏--分內(nèi)漏和外漏，較大的漏點可以用火焰法，利用氣流能使火焰偏離的原理，先抽上真空，比如用蠟燭或打火機在可疑點附近逐步查尋，會發(fā)現(xiàn)火苗向漏點偏移，則可找到漏點。查找小漏和微漏：利用在高真空狀態(tài)下電離管對某些氣體反應(yīng)敏感來檢漏，比如丙酮或乙醇，用醫(yī)用注射器向可疑的地方噴射丙酮或乙醇，噴到漏點時，電離計的指針會有明顯擺動。用這種方法檢漏一定要有耐心，一定要等到電離計的示值穩(wěn)定了--也就是真空機組的抽氣能力和漏率平衡了，然后再噴射。好是反復(fù)幾次，確認漏點。內(nèi)漏多發(fā)生在有水冷套的設(shè)備上，查外漏沒有發(fā)現(xiàn)疑點，但是卻有以下現(xiàn)象：機械泵的抽速明顯偏低、真空計示值低、機械泵油很快乳化、真空室內(nèi)的鐵基零部件明顯銹蝕。具備以上條件基本可以確定有內(nèi)漏。

離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結(jié)構(gòu)件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復(fù)合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。

發(fā)黑通常是由于過早氧化造成的。泛黃一般是因為鋁源中含有雜質(zhì)過多，一般純度應(yīng)在4 N或5N以上。無論是涂布機的真空度不達標，都要達到10—7倍Pa。（不準確）。涂敷物品的清洗不，表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理，溫度過高或過低。涂層項目的潛在設(shè)置不合理。真空擴散泵油應(yīng)更換。調(diào)節(jié)蒸發(fā)源的溫度，不能太低或太高。如果電子束蒸發(fā)，電子束的轟擊位置也應(yīng)該調(diào)整。

真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水，來確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定，所以會選擇使用水冷式冷水機來作為真空鍍膜加工冷卻設(shè)備。

一 真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備冷水機的作用

真空鍍膜加工過程中，真空鍍膜機作為主要設(shè)備，工作過程中有高頻電流過程，電導(dǎo)會在反復(fù)過程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起，需要冷卻設(shè)備及時地進行冷卻，避免設(shè)備部件損壞，影響使用壽命；另外，真空鍍膜電鍍液需要根據(jù)電鍍產(chǎn)品不同進行溫度調(diào)節(jié)，并保持相對恒溫，反復(fù)鍍膜會造成鍍液溫度升高，同樣需要冷卻設(shè)備來準確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中，根據(jù)真空鍍膜加工的實際需求，選用相應(yīng)規(guī)格的冷水機設(shè)備來進行、穩(wěn)定的溫度控制調(diào)節(jié)是經(jīng)濟有效的解決方案。

利摘要顯示，本申請關(guān)于一種真空鍍膜自動加料裝置，涉及真空鍍膜領(lǐng)域。該真空鍍膜自動加料裝置包括支架，支架上安裝有滑動機構(gòu)，滑動機構(gòu)上安裝有驅(qū)動機構(gòu)以及加料機構(gòu)，驅(qū)動機構(gòu)的動力輸出端與加料機構(gòu)傳動連接；加料機構(gòu)的上方還安裝有儲料罐，儲料罐將粉料輸送至加料機構(gòu)內(nèi)，加料機構(gòu)與外部管式爐的進料口接駁；其中，儲料罐上還安裝有攪拌機構(gòu)，攪拌機構(gòu)將儲料罐內(nèi)的粉料均勻的輸送至加料機構(gòu)內(nèi)。實現(xiàn)了在CVD過程中，粉末狀態(tài)的蒸發(fā)材料（如派瑞林）少量、連續(xù)進入管式爐以進行后續(xù)的加熱、升華、裂解工藝，既滿足了蒸發(fā)材料的用量，又達到了實時動態(tài)調(diào)整進料量的目的，提升了鍍膜效果，并實現(xiàn)了一種以上的蒸發(fā)材料復(fù)合鍍膜的工藝需求。

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