在紫外光照射下，吸收了光能量的光引發(fā)劑分解成游離基引發(fā)單體進行光聚合反應(yīng)，形成不溶于稀堿的溶液的體型分子。要使每種干膜聚合效果好，就有一個佳的曝光量。從光能量的定義公式可知，總曝光量E是光強度I和曝光時間T的乘積。若光強度I不變，則曝光時間T就是直接影響曝光總量的重要因素。曝光不足時，由于聚合不，在顯影過程中，膠膜溶脹變軟，導致線條不清晰甚至膜層脫落，造成膜與銅結(jié)合不良；若曝光過度，會造成顯影困難，也會在電鍍過程中產(chǎn)生起翹剝離，形成滲鍍。所以，解決的工藝措施就是嚴格控制曝光時間，每種類型的干膜在起用時應(yīng)按工藝要求進行測量。如采用瑞士頓21級光楔表，級差0.15，以控制6-9級為宜。
正顯影時，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時，在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。靜電潛像電位越高的部分，吸附色粉的能力越強；靜電潛像電位越低的部分，吸附色粉的能力越弱。對應(yīng)靜電潛像電位（電荷的多少）的不同，其吸附色粉量也就不同。
干膜曝光顯影是pcb板制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在pcb板上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，隨著關(guān)鍵尺寸的不斷縮小，pcb板制造對顯影工藝的要求也越來越高，顯影工作液重要性隨著工藝的進步日漸得到重視。
干膜為一種含羧基的有機物，也會含有一些金屬離子（如ca2+和mg2+），傳統(tǒng)的是用碳酸根去作用羧基，去除有機物，但是缺陷在于碳酸根容易反應(yīng)產(chǎn)生沉淀（如碳酸鈣和碳酸鎂），粘連到板子上，粘上去的這塊區(qū)域在后續(xù)的去膜中去不掉，被當作線路了（本來這塊不是線路），造成短路。
顯影機分三個部分：
段是噴淋段，主要是利用高壓噴射無水碳酸鈉，使未被曝光的阻焊劑溶解下來；
第二段是水洗段，是利用高壓泵水洗，先將殘留溶液水洗干凈，然后進入循環(huán)水洗，洗凈；
第三段是吹干段，吹干段前后各有一個風刀主要是用熱風把板子吹干，再有吹干段的溫度較高也可把板子烘干。
正確的顯影時間通過顯影點來確定，顯硬點保持在顯影段總長度的一個恒定百分比上，如果顯影點離顯影段出口太近，未曝光的阻焊層得不到充分的顯影會造成未曝光阻焊層的殘余可能留在板面上，如果顯影點離顯影段的入口太近，被曝光的阻焊層由于與顯影液過長時問的接觸，可能被浸蝕而變得發(fā)毛，失去光澤。通常顯影點控制在顯影段總長度的40％-60％之內(nèi)，另外，要注意在顯影時，很容易將板子劃傷，通常解決的方法，是在顯影時，放板子操作人員要戴手套，對板子要輕拿輕放，還有是印制板的尺寸大小不一，所以，盡量尺寸差不多大的一起放，在放板子時，板子與板子之間要保持一定間距，以防止傳動時，板子擁擠，造成“卡板”等現(xiàn)象。顯完影后，將印制板放在木制托架上。
PCB 顯影的原理是利用光敏膠層的化學反應(yīng)性質(zhì)。在制作 PCB 的過程中，需要將電路圖案打印在透明膠片上，然后將透明膠片與光敏膠層貼合在一起，通過紫外線曝光將電路圖案轉(zhuǎn)移到光敏膠層上。曝光后，光敏膠層中未曝光的部分仍然是可溶的，而曝光過的部分則變得不可溶。
顯影液的濃度、溫度和顯影時間都是非常重要的。如果濃度太高或溫度太高，顯影液會過于強烈地溶解光敏膠層，導致電路圖案變形或失真。如果濃度太低或溫度太低，顯影液則無法有效地溶解未曝光的部分，導致電路圖案不清晰或不完整。因此，顯影液的濃度、溫度和顯影時間嚴格控制，以確保 PCB 的質(zhì)量和穩(wěn)定性。
日常保養(yǎng)和維護
1、顯影液循環(huán)、膠液循環(huán)、水循環(huán)順暢，無堵塞；
2、定期更換顯影液，同時清洗顯影機(建議每天清洗一次)；
3、定期更換過濾芯，一般每周更換一次(建議使用100u濾芯)；
4、定期更換保護膠并清洗保護膠系統(tǒng)(建議每天一次)；
5、每天擦洗膠輥(可能干凈的軟布沾顯影液擦冼)；
6、定期清洗膠輥，各膠輥之間壓力均勻(每周一次)；
7、定期清洗加熱段導軌(每周一次)；
8、整機清潔，表面不殘留顯影液或其它化學制劑
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