欧美日韩一区视频,亚洲va国产日韩欧美精品色婷婷,国产日韩欧美在线,在线免费视频a,亚洲高清在线观看播放,亚洲第一在线,日韩视频精品

真空氣相沉積爐

免費發(fā)布供求信息
  • 信息
    報價
  • 頂立科技廠家直銷臥式化學氣相沉積爐（沉積炭）化學氣相沉積爐氣相沉積爐
    面議
    化學氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳氫氣體（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。 技術特征 可根據客戶需求設計尺寸，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求； 采用多
    05月27日
  • 頂立科技廠家直銷立式化學氣相沉積爐（碳化硅）氣相沉積爐沉積爐
    面議
    該立式化學氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。 技術特征 采用先進的控制技術，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動范圍?。?
    01月15日
  • 頂立科技廠家直銷立式化學氣相沉積爐（沉積炭）CVD/CVI氣相沉積爐
    面議
    立式化學氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳氫氣體（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。 技術特征 根據爐膛尺寸與結構設置溫區(qū)，溫度均勻性好； 采用特殊結構沉積室，密
    05月27日
  • 氣相沉積爐CVD爐
    180000.00元
    一、產品簡介： 該設備ZYG1700-100是一款非標定制的小型雙溫區(qū)管式爐；可實現一邊進氣做氣象沉積同時還能抽真空，保持爐膛內的真空度為負壓的狀態(tài)；真空系統(tǒng)由干泵+分子泵組成真空度可達6.67..
    12月11日
  • 氣相沉積精密小型真空濺射儀真空鍍膜
    39800.00元
    鄭州科探儀器設備是定制物理 氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設計者和制造商，客戶服務和售后服務。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經驗。其研發(fā)團隊在學界科學家和工程師的支持下，高度積極地開發(fā)新設..
    06月14日
  • 一種石墨烯薄膜連續(xù)式氣相沉積爐
    1.00元
    供應石墨烯氣相沉積法鴻峰牌CVD系統(tǒng) 該設備為咸陽鴻峰窯爐設備有限公司自主設計的化學氣相沉積爐，主要針對石墨烯薄膜的連續(xù)式沉積，屬于宏量制備系統(tǒng)。 設備特點： 1.該設備可以實
    02月28日
  • CVD化學氣相沉積設備
    100000.00元
    設備介紹： 本設備是借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低
    09月11日
  • 半導體真空氣相沉積磁控薄膜沉積真空鍍膜濺射儀
    39800.00元
    鄭州科探儀器設備是定制物理 氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設計者和制造商，客戶服務和售后服務。擁有7年以上真空和薄膜沉積鍍膜技術經驗。氣相沉積濺射其研發(fā)團隊在學界科學家和工程師的支持下，高..
    06月14日
  • 供應CVD實驗爐化學氣相沉積實驗爐
    100.00元
    設備名稱：鴻峰牌CVD設備化學氣相沉積爐 設備用途： 真空CVD設備&化學法氣相沉積實驗爐主要用于實驗室新型炭材料和膜材料的化學沉積實驗,屬于管式高溫回轉爐。 該設備燒結溫
    03月12日
  • 真空感應化學氣象沉積爐哪家好，真空熔煉爐代理
    面議
    真空感應化學氣象沉積爐哪家好，真空熔煉爐代理產品詳情 真空感應化學氣相沉積爐是在真空或保護氣氛下，利用中頻感應原理將置于感應線圈內的石墨坩堝加熱，石墨坩堝中放入被制備的
    03月31日
  • PEVCD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)石墨烯生長常用設備
    58888.00元
    （一）產品用途：對于石墨烯生長工藝非常合適。制作硅片可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜，對于離子注入后的貴金屬，各種黃
    05月24日
  • 物理氣相沉積（PVD）設備市場專項調研及投資前景預測報告
    面議
    中國物理氣相沉積（PVD）設備市場專項調研及投資前景預測報告2024-2030年【報告編號】56004【出版日期】2024年7月【交付方式】電子版或特快專遞【報告價格】【紙質版】:6500 【電子版】:6800 ..
    09月22日
  • 全球與中國常壓化學氣相沉積系統(tǒng)市場全面調研及發(fā)展趨勢研究報告
    面議
    全球與中國常壓化學氣相沉積系統(tǒng)市場全面調研及發(fā)展趨勢研究報告2021-2027年**************************************【報告編號】 324356【出版日期】 2021年9月【出版機構】 中研華泰研究..
    09月22日
  • 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）
    面議
    等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)（PECVD），價格咨詢15301310116 北京麥迪森科技有限公司 符合CE認證標準的三溫區(qū)CVD系統(tǒng)，生長樣品腔的管徑60-120mm，它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與
    04月18日
  • 高校實驗室等離子體化學氣相沉積等離子模塊
    29800.00元
    等離子體化學氣相沉積（ plasma chemical vapor deposition）簡稱PCVD，是一種用等離子體激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態(tài)膜的技術。等離子體化學氣相沉積技術..
    10月28日
  • CVD化學氣相沉積實驗1700度CVD實驗爐
    面議
    產品用途：主要用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業(yè)進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、CVD實驗、物質成分
    05月27日
  • 派瑞林真空氣相沉積工藝與其他涂層方式的區(qū)別
    面議
    很多客戶都在尋找優(yōu)于傳統(tǒng)(液體)涂層方式的鍍膜產品，這時您可能會搜索到一個叫派瑞林涂層的工藝，那么我們?yōu)槭裁床辉龠x擇液體涂層方式而改用氣相沉積的派瑞林鍍膜方式了呢?派瑞林涂層工藝與..
    09月08日
  • 派珂納米parylene真空氣相沉積設備VPC-508
    面議
    產品名稱 Parylene真空氣相沉積鍍膜機 產品型號 VPC-508 工作環(huán)境 電源：380V 五線 6平方以上電纜，大功率15KW 環(huán)境溫度：0-40℃ 環(huán)境濕度：<90% 控制系統(tǒng) PLC控制系統(tǒng) 尺寸 外觀尺寸..
    06月30日
  • 氣相自動切換閥日本ITO伊藤AX-30A
    100.00元
    氣相自動切換閥日本ITO伊藤AX-30A 概述 液化石油氣用自動切換式一體型調壓器左右兩方各有一個入口，一方（正在使用方）的液化氣容器的供氣壓力不能維持正常供應時，由另一方（預備方）
    04月09日
  • 蘇威SOLVAYGALDENHS240HS260氣相焊接液
    6000.00元
    蘇威SOLVAY GALDEN HS 240 HS 260 氣相焊接液 應用領域:半導體、電子工業(yè)氣相焊接 蒸汽焊接 產品..
    04月08日
產品大全 » 印刷服務 » 真空氣相沉積爐

黃頁88網提供2025最新真空氣相沉積爐價格行情，提供優(yōu)質及時的真空氣相沉積爐圖片、多少錢等信息。批發(fā)市場價格表的產品報價來源于共1家真空氣相沉積爐批發(fā)廠家/公司提供的273742條信息匯總。