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1200.00元氧化鋁靶材Al2O3 Target 陶瓷濺射靶材 氧化鋁顆粒 氧化鋁靶材 三氧化二鋁靶材 純度：99.99% 分子式：Al2O3 分子量：101.96 CAS號：1344-28-1 密度：4 熔點：2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日 -
1500.00元氧化鎂靶材 MgO靶材 氟化鎂靶材 陶瓷濺射靶材 北京金源新材科技有限公司專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn),采用電子束熔煉,區(qū)間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學(xué)提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.907月31日
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39500.00元鈷鈮鋯靶材是用于真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種，是由高純鈷、鈮、鋯經(jīng)過高真空熔煉得到鑄坯，再經(jīng)加工得到的產(chǎn)品，具有特定的尺寸和形狀的高純鈷鈮鋯材料，安裝在真空鍍膜機上，濺射成膜。Co..07月01日
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800.00元高純鎂靶材 金屬鎂顆粒 Mg Target 金屬濺射靶材 北京金源新材科技有限公司專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn),采用電子束熔煉,區(qū)間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學(xué)提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.907月31日
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產(chǎn)品名稱：鉬靶材 純度: 99.95% 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據(jù)客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內(nèi)外表面呈現(xiàn)出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛03月07日
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鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% 規(guī)格：圓形靶，板靶，旋轉(zhuǎn)靶 鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學(xué)玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所..11月10日
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產(chǎn)品名稱：鉬靶材 純度: 99.95% 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據(jù)客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內(nèi)外表面呈現(xiàn)出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛08月16日
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7560.00元我們的現(xiàn)貨鉿顆粒參數(shù)：電阻率32.2μOhmcm溫度系數(shù)0.00440K?1晶體結(jié)構(gòu)密排六方抗拉模量141.00GPa密度13.100g/cm3 熔點2227.00°C沸點4602°C熱膨脹系數(shù)6.000x10?? K?1導(dǎo)熱..07月02日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..10月22日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..08月16日
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產(chǎn)品名稱：鉬靶材 純度: 99. 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據(jù)客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內(nèi)外表面呈現(xiàn)出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛刺01月28日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..12月17日
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1.00元濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子12月10日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..12月10日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..11月06日
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1.00元濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子10月28日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..10月28日
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黃頁88網(wǎng)提供2025最新鉬濺射靶材廠家價格行情，提供優(yōu)質(zhì)及時的鉬濺射靶材廠家圖片、多少錢等信息。批發(fā)市場價格表的產(chǎn)品報價來源于共2家鉬濺射靶材廠家批發(fā)廠家/公司提供的15234627條信息匯總。
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