磁控濺射原理：鋯靶在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個(gè)正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負(fù)高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。 磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設(shè)備原理簡單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導(dǎo)電材料外，也可濺射非導(dǎo)電的材料，同時(shí)還司進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。

各種類型的濺射薄膜材料，鉿靶，鋯靶在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造；在信息存儲產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。
市場概況
日本。就美國而言．約有50家中小規(guī)模的靶材制造商及經(jīng)銷商，其中大的公司員工大約有幾百人。不過為了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服務(wù)，全球主要靶材制造商通常會在客戶所在地設(shè)立分公司。近段時(shí)間，的一些國家和地區(qū)，如臺灣．韓國和新加坡，就建立了越來越多制造薄膜元件或產(chǎn)品的工廠，如IC、液晶顯示器及光碟制造廠。
對靶材廠商而言，這是相當(dāng)重要的新興市場。中國靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展也是與日俱增，不斷的擴(kuò)大自己的規(guī)模和生產(chǎn)技術(shù)，國內(nèi)一線生產(chǎn)制造靶材的已經(jīng)達(dá)到國外的技術(shù)水平。2010年，日本三菱公司就在中國臺灣地區(qū)建立了光碟塒靶材的生產(chǎn)基地，可以滿足臺灣50%的靶材需要。

可根據(jù)用戶需要制作。
鋯盤管換熱器:
規(guī)格；標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格，功率有1.5KW-50KW,
形態(tài)；根據(jù)加熱功率，可制成“L”型，“U” “0"型等，并可附有過熱保護(hù)裝置。
用途；適用于鈦無法勝任的酸、堿介質(zhì)中（氫氟酸除外）。
在聚合物的生產(chǎn)中，鋯的應(yīng)用是代替石墨作熱交換器。鋯熱交換器的成本雖比石墨約高4倍，比鈦約高 2倍，但它經(jīng)久耐用足以彌補(bǔ)成本費(fèi)。

鋯換熱器產(chǎn)品介紹:
現(xiàn)在的搪瓷釜由于介質(zhì)的腐蝕性、反應(yīng)條件忽冷忽熱等問題，總會出現(xiàn)這樣那樣的搪瓷層損壞。一旦出現(xiàn)爆瓷現(xiàn)象,搪瓷面的損壞會迅速擴(kuò)大，繁瑣的修補(bǔ),停產(chǎn),安全事故及環(huán)境污染等不可預(yù)計(jì)的損失一直困擾著國內(nèi)眾多化工企業(yè).
取代搪瓷釜的金屬鋯盤管換熱器,解決化工行業(yè)所使用的搪瓷釜爆瓷,搪瓷面的損壞，不易修復(fù)(或者修復(fù)成本高)而報(bào)廢的成本問題.由于金屬鋯材優(yōu)良的導(dǎo)熱性和強(qiáng)耐腐蝕性,在加熱,冷卻兩道工序上有效的縮短了生產(chǎn)時(shí)間,并且它特有的強(qiáng)耐腐蝕性這一特點(diǎn),從而了生產(chǎn)中不被各種工況的腐蝕性所腐蝕的要求,在生產(chǎn)旺季為生產(chǎn)出貨,創(chuàng)造了寶貴的時(shí)間,并且提高了產(chǎn)量,真正實(shí)現(xiàn)換熱設(shè)備零維護(hù).
本產(chǎn)品已經(jīng)在國內(nèi),外大型農(nóng)藥化工,醫(yī)藥化工,石化等行業(yè)投入使用,反應(yīng)良好,歡迎有此需求,有此困擾的客戶來電咨詢,洽談,我公司將在時(shí)間回復(fù),配合.給予設(shè)備,技術(shù)上的支持.

名　　稱：鋯管
規(guī)　　格：Φ8.0—89.0（外直徑）╳ 1.0—10.0（壁厚）╳ L（長）mm
狀　　態(tài)：退火
主要性能： 抗拉強(qiáng)度HB>379Mpa 導(dǎo)熱率=0.040Cal/cm2 （可以彎成需要的形狀）
應(yīng)用領(lǐng)域：油箱盤管、殼管熱交換器、熱虹吸管、蒸發(fā)器、卡口加熱器和人造絲絲囊、管殼式換熱器,列管式換熱器,加熱管,管式預(yù)熱器、化工設(shè)備反應(yīng)釜盤管等。
例如：在蒸氣壓力為239000Pa，溫度為373K，管中流體含5%硫酸、3%、6%硫酸鈉的條件下，用鋯盤管代替鉛盤等，使用壽命在10年以上。

我們曾在多種農(nóng)藥設(shè)備上進(jìn)行過工業(yè)鋯的應(yīng)用研究，如在農(nóng)藥反應(yīng)罐中進(jìn)行了鋯的實(shí)際應(yīng)用與掛片試驗(yàn)。農(nóng)藥水解反應(yīng)的條件為：20%硫酸+甲萘胺；溫度220-250℃；15個(gè)大氣壓（1520kPa)，一個(gè)流程時(shí)間為7h，在此條件下設(shè)備腐蝕嚴(yán)重，1mm厚普通鋼板，反應(yīng)后即腐蝕穿孔。原采用罐內(nèi)搪12- 14mm厚的鉛層為防腐層，則易污染環(huán)境，鉛的抗腐蝕也較差，一個(gè)搪鉛反應(yīng)罐，僅能使用50-60批料即穿孔漏液。鋯掛片試驗(yàn)條件為：生產(chǎn)介質(zhì)20%硫酸+甲萘胺；生產(chǎn)200-250℃；壓力14-15個(gè)大氣（1419- 1520kPa)。結(jié)果表明，隨時(shí)間增加，鋯母材與焊縫區(qū)氧含量稍有增加，但增加速度較緩，對鋯的力學(xué)性能未引起惡化。而氫含量卻在這種介質(zhì)腐蝕中逐漸下降，可減少脆性，對鋯有利，年腐蝕率僅為 0.024-0.04mm/a。