化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。

在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個重要因素。因此，當點評某薄膜樣品的功用時，需求檢測該薄膜樣品不同厚度下的功用。對于真空鍍膜的情形，這往往需求進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀況不同，以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次，真空鍍膜試驗裝取樣品需求重新進行真空的獲得，十分耗時。增加了出產(chǎn)和檢測的本錢。

真空鍍膜中常用的塑料，ABS是早運用的，是一起滿意三個條件的塑料，A代表丙烯腈，B代表丁二烯，S代表苯乙烯，塑料中含有以上三種物質(zhì)的便是ABS塑料了，ABS鍍上膜層后，能夠很好的發(fā)揮其機械功能、抗沖擊性，依靠其硬度大，耐磨損，本錢不高，常常被用于替代某些金屬機械零部件，也用于出產(chǎn)家用電器的外殼，但由于含有丁二烯，ABS不能在室外運用，否則會變色。

真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學特性而言，它可以是離子態(tài)或共價態(tài)，無機態(tài)或有機態(tài)。

暴露在空氣中的真空鍍膜機表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現(xiàn)象、化學反應、浸出干燥過程、機械處理、擴散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。

　?、儆椭?潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;

　　②水基類:操作時的手汗、吹氣時的水蒸氣、唾液等。

　　③表面氧化物:材料長時間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;

　?、芩帷A、鹽類物質(zhì):清洗時的殘留物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等。

　　⑤環(huán)境空氣中的拋光殘渣、灰塵和其他有機物等。

真空是支撐真空鍍膜機運行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設備。通常，我們需要達到高的真空度，而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外，真空鍍膜設備的操作還有一點，就是工件的脫氣。有些工件內(nèi)部有大量氣體和水分，在設備加熱時會排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內(nèi)部機械結(jié)構(gòu)，導致設備無法正常運行。