化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個重要因素。因此，當點評某薄膜樣品的功用時，需求檢測該薄膜樣品不同厚度下的功用。對于真空鍍膜的情形，這往往需求進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀況不同，以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次，真空鍍膜試驗裝取樣品需求重新進行真空的獲得，十分耗時。增加了出產(chǎn)和檢測的本錢。

眾所周知，真空鍍膜機的運行狀態(tài)將直接影響鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量。為了更好地運行，有必要對真空鍍膜機進行維護。那么，你知道真空鍍膜機維護的意義嗎?　　設備的日常維護就是發(fā)現(xiàn)生產(chǎn)中的異常現(xiàn)象，盡早解決。如果發(fā)現(xiàn)機械泵的油量減少，應該添加。不要認為應該定期換油。否則，在進行維護時，泵的轉(zhuǎn)子可能會嚴重磨損。比如有些軸承工件被夾住，就要更換軸承;否則壞了，問題就嚴重了，可能會出現(xiàn)電機燒毀等問題。

暴露在空氣中的真空鍍膜機表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現(xiàn)象、化學反應、浸出干燥過程、機械處理、擴散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。

　　①油脂:潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;

　　②水基類:操作時的手汗、吹氣時的水蒸氣、唾液等。

　?、郾砻嫜趸?材料長時間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;

　?、芩?、堿、鹽類物質(zhì):清洗時的殘留物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等。

　?、莪h(huán)境空氣中的拋光殘渣、灰塵和其他有機物等。

前期清洗真空鍍膜機可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機的很多小問題，對真空鍍膜機的工作效率和鍍膜質(zhì)量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統(tǒng)中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩(wěn)定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發(fā)射和轟擊。