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厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。
開機械泵、預抽,開渦輪分子泵電源、并啟動,真空計開關換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。觀察渦輪分子泵讀數到達250以后,關預抽,開前級泵和高真空閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能打開電子槍電源。
真空鍍膜設備主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括多弧離子真空鍍膜設備,真空離子蒸發(fā),光學鍍膜機,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光,所以在高真空下才能使結晶體細密光亮,如果真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射,結合差工效低光澤差?,F在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。
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