研磨玻璃粉也是需要高硬度氧化鋁球，高硬度的氧化鋁球研磨玻璃產(chǎn)生的雜質(zhì)比較少，能提高玻璃的質(zhì)量。由于其顏色非常白，石英粉也白，所以在研磨的過程中不會(huì)對(duì)石英粉造成污染。石英粉硬度比較高，所以需要硬度比較高的氧化鋁球，氧化鋁球的硬度跟氧化鋁含量有關(guān)，一般采用高含量氧化鋁球進(jìn)行研磨。

塑料編織袋， 根據(jù)不同生產(chǎn)廠商，規(guī)格：25kg/50kg/噸包，產(chǎn)品應(yīng)存放在室內(nèi)干燥處。 使用前切勿打開包裝，以免吸潮，影響使用效果。

用于表征氧化鋁物理性質(zhì)的指標(biāo)有：安息角、α-Al203含量、容重、粒度和比表面積以及磨損系數(shù)等。
1、安息角。氧化鋁安息角是指物料在光滑平面上自然堆積的傾角。安息角較大的氧化鋁在電解質(zhì)中較易溶解，在電解過程中能夠很好的復(fù)蓋于電解質(zhì)結(jié)殼上，飛揚(yáng)損失也較小。
2、a-Al2O3含量。氧化鋁中a-Al2O3含量反映了氧化鋁焙燒程度，焙燒程度越高，a-Al2O3含量越多，氧化鋁的吸濕性隨著a-Al2O3含量增多面變差。所以，電解用的氧化鋁要求含一定數(shù)量的a-Al2O3。但a-Al2O3在電解質(zhì)中的溶解性能較Υ-Al203差。
3、容重。氧化鋁的容重是指在自然狀態(tài)下單位體積的物料的重量。通常容重小的氧化鋁有利于在電解質(zhì)中的溶解。
4、粒度。氧化鋁的粒度是指其粗細(xì)程度。氧化鋁的粒度適當(dāng)，過粗在電解質(zhì)中溶解速度慢，甚至沉淀；過細(xì)則容易飛揚(yáng)損失。
5、比表面積。氧化鋁的比表面積是指單位重量物料的外表面積與內(nèi)孔表面積之和的總表面積。是表示物質(zhì)活性高低的一個(gè)重要指標(biāo)。比表面積大的氧化鋁在電解質(zhì)中溶解性能好，活性大，但易吸濕。
6、磨損系數(shù)。所謂磨損系數(shù)是氧化鋁在控制一定條件下的流化床上磨撞后，試樣中 粒級(jí)含量改變的百分?jǐn)?shù)。磨損系數(shù)是表征氧化鋁強(qiáng)度的一項(xiàng)物理指標(biāo)。

活性氧化鋁屬于化學(xué)品氧化鋁范疇，主要用于吸附劑、凈水劑、催化劑及催化劑載體。活性氧化鋁對(duì)氣體、水蒸氣和某些液體的水分有選擇吸附本領(lǐng)。吸附飽和后可在約175～315℃加熱除去水而復(fù)活。吸附和復(fù)活可進(jìn)行多次。除用作干燥劑外，還可從污染的氧、氫、二氧化碳、天然氣等中吸附潤(rùn)滑油的蒸氣。并可用作催化劑和催化劑載體和色層分析載體?？捎米鞲叻嬎某鷦ǔ萘看螅⑼榛缴a(chǎn)中循環(huán)烷烴的脫氟劑、變壓器油的脫酸再生劑、用作制氧工業(yè)、紡織工業(yè)、電子行業(yè)氣體干燥，自動(dòng)化儀表風(fēng)的干燥以及在化肥、石油化工干燥等行業(yè)作干燥劑、凈化劑（露點(diǎn)可達(dá)-40℃）、在空分行業(yè)變壓吸附露點(diǎn)可達(dá)-55℃。是一種微量水深度干燥的干燥劑。非常適用于無熱再生裝置。

活性氧化鋁生產(chǎn)原料有兩種，一種是由三水鋁石或拜耳石生產(chǎn)的“快脫粉”，另一種是由鋁酸鹽或鋁鹽或二者同時(shí)生產(chǎn)的擬薄水鋁石。
x-ρ 氧化鋁的生產(chǎn)
x-ρ氧化鋁是生產(chǎn)活性氧化鋁球的主要原料，國(guó)外簡(jiǎn)稱FCA，在國(guó)內(nèi)因其是用快速脫水法生產(chǎn)的氧化鋁粉，所以稱為“快脫粉”?！翱烀摲邸啊笔莤-氧化鋁和ρ - 氧化鋁的混合物，因生產(chǎn)條件的差別，含量各不相同。
擬薄水鋁石的生產(chǎn)方法
天然或人工生產(chǎn)的一水氧化鋁和三水氧化鋁，因比表面積低、孔容小、活性低，不能用來做干燥劑、吸附劑、催化劑和催化劑載體。將一水氧化鋁或三水氧化鋁加工成擬薄水鋁石。擬薄水鋁石具有高比表面積、大孔容、大孔徑、高活性，適合于作干燥劑、吸附劑及石油化工、化肥及尾氣等領(lǐng)域的催化劑和催化劑載體等。

吸附劑及催化劑載體用氧化鋁是一種精細(xì)化學(xué)品，也是一種化學(xué)品。不同用途對(duì)物性結(jié)構(gòu)的要求不同，這就是其性強(qiáng)、品種牌號(hào)多的緣故。據(jù)統(tǒng)計(jì)，用氧化鋁作催化劑及載體的數(shù)量，比分子篩、硅膠、活性炭、硅藻土及硅鋁膠的催化劑總用量還多。由此可見氧化鋁在催化劑及載體中的舉足輕重的地位。其中η-Al2O3和γ-Al2O3又是重要的催化劑及載體，它們都是含有缺陷的尖晶石結(jié)構(gòu)，兩者的區(qū)別是：四面體的晶體結(jié)構(gòu)不同（γ>η），六方層的堆排規(guī)整性不同（γ>η）以及Al—O鍵距不同（η>γ，差值0.05～0.1nm）。