鍍膜設(shè)備應(yīng)該在高真空下工作，真空值的優(yōu)劣可以直接危害表層的鍍膜的質(zhì)量。有時鍍膜設(shè)備的真空值抽不出來或是真空值不太好，可能是連接頭松脫或是有焊接發(fā)生脫焊。傳統(tǒng)式的氣密性試驗方式應(yīng)該鍍膜設(shè)備關(guān)機，充氮，再在猜測有漏的位置涂上肥皂泡，整個過程用時費事極易錯判，針對微小的泄露沒法檢驗。諾益氦質(zhì)譜檢漏儀運用氦氣做為示蹤氣體，小漏率低于5E-13Pam3/s，安全環(huán)保，檢漏時無需關(guān)機，立即在機械泵的旁通連接測漏儀便可以迅速有效的進行檢驗了。

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如何處理真空鍍膜的灰塵呢
1、設(shè)備使用的源材料要符合必要的純度要求。
2、設(shè)備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問題。
3、真空鍍膜一段時間后，真空室內(nèi)壁要清潔處理。
4、真空鍍膜清洗襯底材料，要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。
5、真空鍍膜適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。
6、工作人員在操作時需要戴手套、腳套等，要有的服裝。
由于灰塵對鍍膜效果會產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設(shè)備中留下灰塵，應(yīng)該在使用中注意以上幾點來盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

真空鍍膜工藝在信息存儲范疇中的運用薄膜資料作為信息記載于存儲介質(zhì)，有其得天厚的優(yōu)勢：因為薄膜很薄能夠疏忽渦流損耗；磁化回轉(zhuǎn)極為敏捷；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀況簡單保持等。為了更精細(xì)地記載與存儲信息，必定要選用鍍膜技能。

真空鍍膜工藝在傳感器方面的運用在傳感器中，多選用那些電氣性質(zhì)相關(guān)于物理量、化學(xué)量及其變化來說，極為敏感的半導(dǎo)體資料。此外，其中大多數(shù)運用的是半導(dǎo)體的外表、界面的性質(zhì)，需求盡量增大其面積，且能工業(yè)化、低報價制造、因而選用薄膜的狀況許多。

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