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在簡(jiǎn)易隔離式偏壓電源設(shè)計(jì)中，非對(duì)稱(chēng)半橋反激電路是關(guān)鍵。它通過(guò)同步降壓電路提供隔離電源，類(lèi)似于同步降壓調(diào)節(jié)器的工作原理。輸入電壓驅(qū)動(dòng)的場(chǎng)效應(yīng)管(FET)驅(qū)動(dòng)電感電容濾波器，隨后通過(guò)分壓器和誤差放大器的協(xié)同作用，調(diào)整濾波器輸出，保持DC電壓穩(wěn)定。特別之處在于，電感電路中的耦合繞組和二極管設(shè)計(jì)巧妙地解決了負(fù)載電壓調(diào)節(jié)的難題，通過(guò)二極管的直流電壓調(diào)整，提升了負(fù)載調(diào)節(jié)的精度。如果采用場(chǎng)效應(yīng)管替代，性能將進(jìn)一步提升。

總結(jié)起來(lái)，真空多弧離子鍍膜機(jī)的偏壓電源是一個(gè)精密調(diào)控的系統(tǒng)，它通過(guò)復(fù)雜的電路設(shè)計(jì)，確保了離子的加速和沉積過(guò)程，從而實(shí)現(xiàn)的涂層工藝。無(wú)論是直流還是脈沖電源，每一環(huán)節(jié)都對(duì)終的鍍膜效果有著至關(guān)重要的影響。

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抽空時(shí)間相同，而真空度偏低，這時(shí)候關(guān)閉主閥，如真空計(jì)指針很快下降，多數(shù)情況是真空室漏，應(yīng)先查出漏點(diǎn)。如真空計(jì)指針下降很慢，多數(shù)情況是真空機(jī)組抽氣能力不夠，查找真空泵及閥門(mén)看哪里出現(xiàn)泄漏，或是擴(kuò)散泵油污染或氧化；或前級(jí)管路密封不好，泵油不足；或泵油乳化，軸封漏油等。漏--分內(nèi)漏和外漏，較大的漏點(diǎn)可以用火焰法，利用氣流能使火焰偏離的原理，先抽上真空，比如用蠟燭或打火機(jī)在可疑點(diǎn)附近逐步查尋，會(huì)發(fā)現(xiàn)火苗向漏點(diǎn)偏移，則可找到漏點(diǎn)。查找小漏和微漏：利用在高真空狀態(tài)下電離管對(duì)某些氣體反應(yīng)敏感來(lái)檢漏，比如丙酮或乙醇，用醫(yī)用注射器向可疑的地方噴射丙酮或乙醇，噴到漏點(diǎn)時(shí)，電離計(jì)的指針會(huì)有明顯擺動(dòng)。用這種方法檢漏一定要有耐心，一定要等到電離計(jì)的示值穩(wěn)定了--也就是真空機(jī)組的抽氣能力和漏率平衡了，然后再噴射。好是反復(fù)幾次，確認(rèn)漏點(diǎn)。內(nèi)漏多發(fā)生在有水冷套的設(shè)備上，查外漏沒(méi)有發(fā)現(xiàn)疑點(diǎn)，但是卻有以下現(xiàn)象：機(jī)械泵的抽速明顯偏低、真空計(jì)示值低、機(jī)械泵油很快乳化、真空室內(nèi)的鐵基零部件明顯銹蝕。具備以上條件基本可以確定有內(nèi)漏。

發(fā)黑通常是由于過(guò)早氧化造成的。泛黃一般是因?yàn)殇X源中含有雜質(zhì)過(guò)多，一般純度應(yīng)在4 N或5N以上。無(wú)論是涂布機(jī)的真空度不達(dá)標(biāo)，都要達(dá)到10—7倍Pa。（不準(zhǔn)確）。涂敷物品的清洗不，表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理，溫度過(guò)高或過(guò)低。涂層項(xiàng)目的潛在設(shè)置不合理。真空擴(kuò)散泵油應(yīng)更換。調(diào)節(jié)蒸發(fā)源的溫度，不能太低或太高。如果電子束蒸發(fā)，電子束的轟擊位置也應(yīng)該調(diào)整。

1．在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開(kāi)動(dòng)真空鍍膜機(jī)時(shí)，先開(kāi)水管，工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。
2．在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。
3．在用電子槍鍍膜時(shí)，應(yīng)在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃，觀察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。
4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。
5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。
6．酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行，并要戴橡皮手套。
7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí)，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。
8．工作完畢應(yīng)斷電、斷水。

需要鍍膜的被稱(chēng)為基片，鍍的材料被稱(chēng)為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。 對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。

利摘要顯示，本申請(qǐng)關(guān)于一種真空鍍膜自動(dòng)加料裝置，涉及真空鍍膜領(lǐng)域。該真空鍍膜自動(dòng)加料裝置包括支架，支架上安裝有滑動(dòng)機(jī)構(gòu)，滑動(dòng)機(jī)構(gòu)上安裝有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以及加料機(jī)構(gòu)，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的動(dòng)力輸出端與加料機(jī)構(gòu)傳動(dòng)連接；加料機(jī)構(gòu)的上方還安裝有儲(chǔ)料罐，儲(chǔ)料罐將粉料輸送至加料機(jī)構(gòu)內(nèi)，加料機(jī)構(gòu)與外部管式爐的進(jìn)料口接駁；其中，儲(chǔ)料罐上還安裝有攪拌機(jī)構(gòu)，攪拌機(jī)構(gòu)將儲(chǔ)料罐內(nèi)的粉料均勻的輸送至加料機(jī)構(gòu)內(nèi)。實(shí)現(xiàn)了在CVD過(guò)程中，粉末狀態(tài)的蒸發(fā)材料（如派瑞林）少量、連續(xù)進(jìn)入管式爐以進(jìn)行后續(xù)的加熱、升華、裂解工藝，既滿足了蒸發(fā)材料的用量，又達(dá)到了實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)整進(jìn)料量的目的，提升了鍍膜效果，并實(shí)現(xiàn)了一種以上的蒸發(fā)材料復(fù)合鍍膜的工藝需求。