真空均質(zhì)乳化機(jī)是集混合、分散、均質(zhì)、乳化及吸粉多功能于一體的成套系統(tǒng)，帶有電控系統(tǒng)，也可配合外圍油、水相罐，真空，加熱/冷卻系統(tǒng)等使用。是生產(chǎn)藥用軟膏、膏霜、乳液等的設(shè)備。

在高粘性乳化物，特別是膏霜，軟膏，乳劑類產(chǎn)品的制造工藝中，通常成問(wèn)題的是分散相的粒徑大和攪拌時(shí)把空氣混入制品中，粒徑過(guò)大導(dǎo)致乳狀物不穩(wěn)定，缺少光澤，制品中混入空氣則會(huì)使制品氣泡化，細(xì)菌污染，易氧化及外觀不光滑。針對(duì)兩大問(wèn)題，我公司開(kāi)發(fā)出的ZJR系列真空均質(zhì)乳化機(jī)組，由均質(zhì)攪拌器，中心葉片攪拌，刮壁攪拌各自具有的特點(diǎn)相輔相成，組合成佳的攪拌方式，以達(dá)到混合制品。采用抽真空的方式，使所生產(chǎn)的制品在攪拌過(guò)程中不再混入氣泡，從而可制造出富有光澤，細(xì)膩及延展性良好的產(chǎn)品。

研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時(shí)，運(yùn)行電流曲線呈上升趨勢(shì)，反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)得到充分?jǐn)噭?dòng)，能量需求變化大；填充率在75%-85%，運(yùn)行電流曲線變化平穩(wěn)，反映砂磨機(jī)中的介質(zhì)達(dá)到一個(gè)平衡點(diǎn)，能量需求穩(wěn)定；填充率大于85%，運(yùn)行電流曲線變化呈下降趨勢(shì)，反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)過(guò)量，研磨介質(zhì)與分散盤(pán)之間有滑動(dòng)現(xiàn)象，分散盤(pán)不能帶動(dòng)所有研磨介質(zhì)運(yùn)動(dòng)，能量需求降低。因此，根據(jù)砂磨機(jī)的電流變化曲線可知，研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。[1]