所使用的為水熔性干膜，空氣中的濕度對其影響較大。當(dāng)濕度較大時(shí)，干膜的粘結(jié)劑在貼膜溫度較低時(shí)可達(dá)到良好的粘結(jié)效果。特別南方地區(qū)夏季氣溫偏高，從長期的實(shí)踐中摸索一套較好的溫度控制參數(shù)，在20-250C情況下，相對濕度75％以上時(shí)，貼膜溫度低于730C較好；相對濕度為60-70％時(shí)，貼膜溫度70-800C較好；相對濕度為60％以下時(shí)，貼膜溫度800C為好。同樣加大貼膜膠輥的壓力和溫度，也取得較好的效果。

在紫外光照射下，吸收了光能量的光引發(fā)劑分解成游離基引發(fā)單體進(jìn)行光聚合反應(yīng)，形成不溶于稀堿的溶液的體型分子。要使每種干膜聚合效果好，就有一個(gè)佳的曝光量。從光能量的定義公式可知，總曝光量E是光強(qiáng)度I和曝光時(shí)間T的乘積。若光強(qiáng)度I不變，則曝光時(shí)間T就是直接影響曝光總量的重要因素。曝光不足時(shí)，由于聚合不，在顯影過程中，膠膜溶脹變軟，導(dǎo)致線條不清晰甚至膜層脫落，造成膜與銅結(jié)合不良；若曝光過度，會(huì)造成顯影困難，也會(huì)在電鍍過程中產(chǎn)生起翹剝離，形成滲鍍。所以，解決的工藝措施就是嚴(yán)格控制曝光時(shí)間，每種類型的干膜在起用時(shí)應(yīng)按工藝要求進(jìn)行測量。如采用瑞士頓21級光楔表，級差0.15，以控制6-9級為宜。

反轉(zhuǎn)顯影中，感光鼓與色粉電荷極性相同。顯影時(shí)，通過感光鼓和顯影輥之間的電場作用，碳粉被吸到感光鼓曝光區(qū)域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。這樣感光鼓表面不可見的靜電潛像，就變成了可見的與原稿濃淡一致的不同灰度層次的色粉圖像。在靜電復(fù)印機(jī)中，色粉的帶電通常是通過色粉與載體的摩擦來獲得的，名稱后色帶電極性與載體帶電極性相反（單組份顯影劑中，僅有碳粉，碳粉與出粉刀摩擦帶電）。

干膜曝光顯影是pcb板制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在pcb板上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，隨著關(guān)鍵尺寸的不斷縮小，pcb板制造對顯影工藝的要求也越來越高，顯影工作液重要性隨著工藝的進(jìn)步日漸得到重視。

顯影機(jī)一般由傳動(dòng)系統(tǒng)、顯影系統(tǒng)、沖洗系統(tǒng)、烘干系統(tǒng)、程序控制系統(tǒng)等部分組成。

傳動(dòng)系統(tǒng)
傳動(dòng)系統(tǒng)是引導(dǎo)印版運(yùn)行的驅(qū)動(dòng)裝置。是由電機(jī)通過蝸輪蝸桿或鏈輪鏈條帶動(dòng)傳送輥轉(zhuǎn)動(dòng)，并通過對壓膠輥驅(qū)動(dòng)使印版通過顯影機(jī)的各個(gè)工作環(huán)節(jié)。

顯影系統(tǒng)
印版顯影過程中，經(jīng)過循環(huán)顯影液均勻、連續(xù)地噴淋，將印版空白部位的感光層迅速溶解，有的顯影機(jī)還加有刷輥刷洗，加速這種溶解。為了顯影液在恒定條件下工作，此部分還有加熱器和冷卻器，可自動(dòng)調(diào)節(jié)溫度（一般控制在25℃左右）。藥液自動(dòng)循環(huán)過濾，各處藥液濃度和溫度均勻一致。

沖洗系統(tǒng)
沖洗系統(tǒng)主要是由兩組噴淋管向版面正反面噴淋清水，以除去附著在版面上的顯影生成物和多余的顯影液，并通過擠壓輥擠去版面上的水分；同時(shí)具備二次水洗功能。

涂膠系統(tǒng)
涂膠系統(tǒng)主要功能是在顯影后的版面上涂上一層均勻的保護(hù)膠。

干燥系統(tǒng)
干燥系統(tǒng)由送風(fēng)管和膠輥組成，通過吹風(fēng)和加熱使印版迅速干燥，后將印版送出。
調(diào)整膠輥壓力

根據(jù)印版的厚度范圍調(diào)節(jié)各膠輥之間的壓力，無竄液或竄液小

顯影/水洗、水洗/涂膠、涂膠/烘干，版每次從兩膠輥出來都是干凈的

調(diào)節(jié)上膠輥之間的壓力，可調(diào)節(jié)上膠的厚薄，上膠

膠輥的硬度適應(yīng)于印版，在上述要求的情況下，壓力盡可能小，壓力過大，增大顯影機(jī)負(fù)載，并易卡版