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生長Φ8“直拉硅單晶Φ8”熱場研究及數(shù)值模擬\隨著科學(xué)的飛速發(fā)展,出于提高生產(chǎn)率、降低成本的目的,器件廠家隨著生產(chǎn)規(guī)模的擴大逐步要求增大硅片直徑。硅單晶直徑增大后,大熔硅體積、嚴重的熱對流使單晶氧含量增大。晶體直徑的增大也使結(jié)晶潛熱的散發(fā)更加困難,結(jié)晶速率難以提高。為了解決這兩個問題,本文在國產(chǎn)TDR-80單晶爐的基礎(chǔ)上,對熱場進行了局部改造,施加了新型加強復(fù)合式熱屏。有限元法是一種能求得許多工程問題近似解的數(shù)值分析方法。由于拉單晶過程中投料量較大,爐體結(jié)構(gòu)復(fù)雜、造價昂貴,所以拉晶實驗成本太高。藍寶石長晶爐回收，多晶硅鑄錠爐回收，提拉式長晶爐回收，多晶長晶爐回收，臥式長晶爐回收，拉式單晶爐、收購直拉式單晶爐-85型/90型/95型/100型種種整套單晶回收提爐裝備、分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，產(chǎn)品介紹：SG-XQL1400型箱式真空氣氛爐以硅碳棒為加熱元件，，采用智能化控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制；爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，保溫效果好；雙層殼體結(jié)構(gòu)，帶有風(fēng)冷和水冷系統(tǒng)，能快速降溫，爐門配有循環(huán)水冷，防止密封圈過快老化，保爐門與爐膽的可靠密封。主要用途和適用范圍\可應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空或氣氛條件下的熱處理工藝。也用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門、工礦企業(yè)電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、釬焊等工藝。主要功能和特點：1、

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半導(dǎo)體級直拉法的工藝控制\進入21世紀以來,隨著新興產(chǎn)業(yè)的科技創(chuàng)新,半導(dǎo)體行業(yè)得到了的發(fā)展。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛,尤其近幾年,大力發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),縮短該行業(yè)與世界水平的差距。目前雖然有許多新興材料來替代硅材料,但未來幾年可以預(yù)見,硅材料由于其成熟的技術(shù)品質(zhì)和穩(wěn)定的物理化學(xué)性質(zhì),將會在相當長的一段時間里是主流材料。硅單晶作為主要材料,應(yīng)用的領(lǐng)域也是相當廣泛的。硅單晶是由多晶硅原料經(jīng)過物理變化,讓硅原子按照人為設(shè)定的方向進行生長,終形成的。一般會采用直拉法進行制備。晶圓的直徑越大,集成電路制造的成本將會越低,因此要求作為材料的硅單晶的直徑也要相應(yīng)的增大。這里面涉及到了一系列問題。這篇論文主要討論的是通過對熱場的設(shè)計,工藝的過程控制,減少位錯的產(chǎn)生,以及通過化學(xué)腐蝕對位錯進行檢測的相關(guān)問題。