譜線近萬條基體分析Fe、Al、Cu、Zn等十余種基體

直讀光譜的產生
原子光譜是原子內部運動的一種客觀反映，原子光譜分析是利用各種元素原子結構彼此不同來確定物質的組成。直讀光譜儀是原子發(fā)射光譜儀器的一種，因此它的光譜產生原理與其他原子發(fā)射光譜沒有本質上的區(qū)別，都是試樣中氣態(tài)原子（或離子）外層電子受激發(fā)后躍遷到較高的能級，由于外層電子處于較高能級時把能量以光輻射的形式發(fā)射出來，產生特征的原子光譜，與其他原子發(fā)射光譜相比，僅僅是激發(fā)的具體方法和應用對象不同而已。
光譜定性、半定量分析
光譜定性分析的任務主要是判斷試樣中含有那些元素或者是否存在的元素，并粗略地估計這些元素的大致含量。直讀中抓喲根據(jù)樣品中受邀后發(fā)射的特征譜線來確定元素的存在，。因而正確辨認元素譜線是發(fā)射光譜定性分析的關鍵。在進行光譜定性分析時，并不需要找到元素所有的譜線，一般只需要找到一根或幾根靈敏線即可
光譜半定量分析方法介于定性分析和定量分析之間，可以給出含量近似值。半定量分析方法是以譜線數(shù)目或譜線強度為依據(jù)，常用光譜半定量分析方法有譜線比較法，譜線呈現(xiàn)法、均稱線對法和加權因子法等。
因大多數(shù)商品化直讀光譜儀是固定多道式光電直讀光譜儀，直讀的光譜定性或半定量應用不廣泛

天瑞直讀光譜儀OES8000s廣泛應用于鋼鐵及有色金屬產品元素分析，快速、、穩(wěn)定、可靠測試幾十種元素，滿足工業(yè)研發(fā)、工藝控制、進料檢驗、產品分選多方面檢驗需求，是生產金屬產品的設備。
全譜檢測全面測試各種金屬和元素
基于CCD檢測器全譜測試技術，全面測試各種金屬中元素的譜線，方便實現(xiàn)多基體、多元素的測試。
配置和補充測試基體、通道、分析程序極為方便，方便交貨后在客戶處補充測試元素、分析程序。
國際供應商提供核心部件
光譜色散元件——光柵由德國Zeiss/法國JY公司制造，的光譜分辨能力
光譜檢測器——COMS探測器由日本濱松制造，確保譜線檢測靈敏、低噪聲

應用領域
金屬材料元素含量測試是金屬冶煉、鑄造、加工以及機械行業(yè)的研發(fā)、生產控制、質量檢驗等相關工作的傳統(tǒng)測試項目。
天瑞儀器直讀光譜儀廣泛應用于鋼鐵、有色金屬材料元素含量分析,可快速、、穩(wěn)定、同時測試幾十種分析元素, 滿足工業(yè)研發(fā)、工藝控制、進料檢驗、產品分選等多方面的需求。
天瑞儀器直讀光譜儀測試金屬材料元素含量便捷、環(huán)保、低成本，使研發(fā)、生產的過程和質量更可控，幫助用戶提升產品的技術、質量水平；同時加速相關流程，為用戶創(chuàng)造明顯的經濟效益和環(huán)保效益。直讀光譜儀已成為衡量企業(yè)技術和質量水平的標志性設備。
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光電直讀光譜儀
傳統(tǒng)的光譜檢測系統(tǒng)為單色儀家光電倍增管（PMT）。20世紀70年代以來，人們欲利用光電二級管陣列（SPDA）等光電傳感器以建立三維光譜圖，并發(fā)展相應的處理技術。SPDA不僅能獲得某一波段范圍內的檢測信息，還具有靈活的積分能力，但是它的靈敏度和動態(tài)范圍不及PMT，而且噪聲較大，線性范圍窄，暗電流也大，而CCD卻彌補了這些缺點。
CCD具有與光譜儀器密切相關的一些特性：
（1）靈敏度高，噪聲低。CCD器件具有很高的量子效率，至少為10%，可達90%以上。它的電荷轉移率幾乎達，它在低溫下工作時幾乎無暗電流，噪聲幾乎接近于零，新的CCD器件，已經實現(xiàn)了在常溫下具有很高的信噪比，極低的暗電流，完全滿足了儀器在常溫及微量分析上的要求，上述優(yōu)點使CCD器件的靈敏度超過其他探測器（如PMT何SPDA），檢測下限達pg級甚至fg級。
（2）光譜范圍寬（200~1050nm）。在可見光區(qū)（400~500nm）量子效率可高達90%，在遠紫外區(qū)（200nm）和近紅外（100nm）間，量子效率至少為10%，在100~1100nm寬的光譜區(qū)域，CCD都有很高的量子效率，而大多數(shù)的發(fā)射、吸收和散射的光譜儀器這區(qū)域工作，因此CCD成為各類光譜儀器的理想探測器。
（3）動態(tài)線性響應范圍寬，達10個數(shù)量級。CCD具有很寬的響應范圍和理想的響應線性，達10個數(shù)量級（10?-106），而且在整個動態(tài)響應范圍內，都能保持線性響應，這對光譜定量分析具有特別意義。
（4）幾何尺寸穩(wěn)定，耐過度曝光。CCD經長時間運轉，其幾何性能、熱性能和電性能均很穩(wěn)定，不怕過度曝光，因此比PMT結實耐用。
（5）可以同時多道采樣，得到波長-強度-時間的三維譜線圖，與光電陰極器件聯(lián)用，可觀察X射線圖像。
金屬直讀光譜儀OES8000全譜技術覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及標線，使儀器用短的時間達到優(yōu)的分析效果；
金屬直讀光譜儀OES8000可測定包括痕量碳（C），磷（P）,（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，基，鋅基，錫基和鉛基。
1、光學系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結果準確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性；
2、的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動光路校準，光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定；
6、開放式的電架設計，可以調整的樣品夾，便于形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線采用國際標樣，預做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達幾十塊標樣激發(fā)生成，自動扣除干擾；
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應不同材料 ；
9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩(wěn)定性；
10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
11、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、采用鎢材料電，電使用壽命更長，并設計了電自吹掃功能，清潔電更加容易；
13、DSP及ARM處理器，具有速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊 的運行狀況；
14、儀器與計算機之間采用以太網連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關，使儀器具有的適用性；
15、核心器件全部進口，了儀器的品質。
設備
高純氬氣——純度99.9以上
交流參數(shù)穩(wěn)壓電源——1KVA
光譜磨樣機——用于鋼鐵、鎳合金等樣品
小型車床——用于鋁、銅、鋅、合金等樣品
空調——依實驗室面積配置匹配功率
技術優(yōu)勢
全譜檢測全面測試金屬和元素
基于CCD檢測器全譜測試技術，全面測試金屬中元素的譜線，方便實現(xiàn)多基體、多元素的測試。
配置和補充測試基體、通道、分析程序為方便，方便交貨后在客戶處補充測試元素、分析程序。
的測試方案
來的風直接吹到本裝置）。
金屬元素光譜分析儀OES8000S是的第二代CCD全譜光譜儀制造技術（數(shù)字化技術替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術）、通道不受限制 ；引進歐洲技術、同國際光譜儀技術同步，國內能生產真空CCD全譜技術光譜儀的制造商；基體范圍內通道改變、增加不需費用升級多基體方便，無須變動增加硬件 ；優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ；體積小、重量輕， 移動安裝方便 ；高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ；節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。






金屬元素光譜分析儀主要特點：
1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦 基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；
2、分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及標線，使儀器用短的時間達到優(yōu)的分析效果；
3、光學系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結果準確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性；
4、的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動光路校準，光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定；
6、開放式的電極架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線采用國際標樣，預做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達幾十塊標樣激發(fā)生成，自動扣除干擾；
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應各種不同材料 ；
9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩(wěn)定性；
10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
11、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
13、DSP及ARM處理器，具有速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況；
14、儀器與計算機之間采用以太網連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關，使儀器具有更好的適用性；
15、核心器件全部原裝進口，了儀器的品質。



技術性能及參數(shù)


1.分光室設計
帕邢-龍格結構,羅蘭圓直徑350mm
波長范圍140 – 800nm
像素分辨率10pm
恒溫34℃±0.5℃
材質鑄造，光室形變小
2.凹面光柵
刻線密度3600l/mm
光譜線色散率：1.2 nm/mm
3.檢測器
線陣CCD
4.分析時間
依樣品種類而不同，一般少于30秒
5.激發(fā)光源
全數(shù)字等離子火花光源技術
高能預燃技術 (HEPS)
頻率100-1000Hz
電流1-80A
6.激發(fā)臺
4mm樣品臺分析間隙
噴射電極技術
無待機流量，低氬氣消耗
7.尺寸和重量
高450mm 長750 mm 寬800 mm
85 kg
8.功率
大功率1500W
待機功率70W



工作條件


工作溫度：15-30℃
相對濕度：≤70%
電 源：220±5V，單相50Hz，接地電阻＜1Ω
實驗室無震動、粉塵、強電磁干擾、強氣流、腐蝕性氣體
OES8000廣泛應用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領域的生產工藝控制，爐前化驗，中心實驗室成品檢驗。OES8000全譜直讀光譜儀體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便，是控制產品質量的理想選擇。