化學(xué)組分上的均勻性： 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜屬于干法鍍膜，其主要方法有以下幾種:

　　1.真空蒸發(fā)

　　其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華，蒸發(fā)的離子流直接射向基片，在基片上沉積固體薄膜。

　　2.濺射涂層

　　濺射鍍膜是一種真空條件，在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過(guò)惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg

　　3.離子電鍍法

　　即干式螺桿真空泵制造商已經(jīng)推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的，所以具有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下，工作氣體或蒸發(fā)物質(zhì)(膜材料)通過(guò)氣體放電被部分電離，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過(guò)程中，襯底總是受到高能粒子的轟擊，這使得它非常干凈。

　　4.真空卷繞涂層

　　真空鍍膜是通過(guò)物理氣相沉積在柔性基板上進(jìn)行連續(xù)鍍膜的技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)柔性基板的某些功能性和裝飾性。

檢查泄漏情況是真空鍍鈦機(jī)真空度的一種檢查方法，簡(jiǎn)稱檢漏。真空的凹凸度直接影響鍍膜的作用，因此檢漏是的。通常情況下，真空室的漏氣是由腔壁上的一些孔或元件前的薄接頭引起的。抽氣系統(tǒng)抽氣時(shí)，真空室內(nèi)壓力降低。內(nèi)外壓差使氣體從外部高壓流向低壓真空室，造成真空度降低。