化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

塑膠具有易成型，價(jià)格便宜，質(zhì)量輕，防腐蝕等長(zhǎng)處，但塑膠的缺陷也比較，其缺陷也制約了塑膠的應(yīng)用規(guī)模，如不美觀、易老化、機(jī)械功能差、易碎易變型、耐熱差等。經(jīng)過真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用，使塑膠外表鍍上特定膜層，東莞匯成真空自主研制出產(chǎn)的蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備將鍍膜機(jī)資料和塑膠產(chǎn)呂結(jié)合，大大提高了塑膠制品的物理、化學(xué)功能。

真空鍍膜機(jī)的污染物可以定義為“任何一種無用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機(jī)根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學(xué)特性而言，它可以是離子態(tài)或共價(jià)態(tài)，無機(jī)態(tài)或有機(jī)態(tài)。

前期清洗真空鍍膜機(jī)可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機(jī)的很多小問題，對(duì)真空鍍膜機(jī)的工作效率和鍍膜質(zhì)量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統(tǒng)中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩(wěn)定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發(fā)射和轟擊。

工件常用的除氣方法是烘烤。工件中的氣體和水分通過加熱排出。涂裝前，工件邊抽邊加熱。當(dāng)工件中的水分和氣體因受熱而釋放出來時(shí)，它們與真空室中的氣體一起被真空泵抽出。針對(duì)不同的工件采取不同的脫氣措施，可以有效控制工件內(nèi)部氣體和水的排放，提高涂層的穩(wěn)定性和均勻性。

與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜屬于干法鍍膜，其主要方法有以下幾種:

　　1.真空蒸發(fā)

　　其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華，蒸發(fā)的離子流直接射向基片，在基片上沉積固體薄膜。

　　2.濺射涂層

　　濺射鍍膜是一種真空條件，在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg

　　3.離子電鍍法

　　即干式螺桿真空泵制造商已經(jīng)推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，所以具有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下，工作氣體或蒸發(fā)物質(zhì)(膜材料)通過氣體放電被部分電離，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過程中，襯底總是受到高能粒子的轟擊，這使得它非常干凈。

　　4.真空卷繞涂層

　　真空鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上進(jìn)行連續(xù)鍍膜的技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)柔性基板的某些功能性和裝飾性。