廈門光刻膠   美國光刻膠

1. 
   

• 通過測量水接觸角判斷處理效果

• 處理前水接觸角約40度(親水)

• 理想處理后水接觸角應達到65-80度

• 
  

• 在熱底漆烤箱內進行，溫度130-160℃

• 晶圓表面的OH基團與HMDS中的甲基發(fā)生反應

• 處理時間通常為30-60秒
  

• 在真空中進行，溫度約140-160℃

• 目的是從晶圓表面去除水分，恢復其天然狀態(tài)
  

• 
  

•