蝕刻（etching）又稱為光化學(xué)蝕刻，是把材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)，可分為濕蝕刻（wet etching）和干蝕刻（dry etching）兩種類型。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻（photochemical etching），指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學(xué)溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

將印版和一張紙(通常會被弄濕使其變軟)一起放入高壓印刷機。紙張從蝕刻的線條上吸取墨水，形成印刷品。該過程可以重復(fù)多次；典型地，在印版顯示出太多磨損跡象之前，可以印刷幾百個印痕。板上的工作也可以通過重復(fù)整個過程來添加；這就產(chǎn)生了一種蝕刻，這種蝕刻以多種狀態(tài)存在。蝕刻經(jīng)常與其他凹版技術(shù)如雕刻或水彩結(jié)合使用。

蝕刻的必要性主要在于它能夠通過化學(xué)或電化學(xué)作用，將金屬或其他材料的表面轉(zhuǎn)化為所需要的形狀和圖案。這種技術(shù)不僅能夠大大簡化產(chǎn)品的制造過程，還可以提高產(chǎn)品的質(zhì)量和一致性。通過選擇合適的蝕刻劑和工藝參數(shù)，還能實現(xiàn)對材料表面的保護和加工，使其具有更強的耐腐蝕性、耐磨損性等特性。