化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。

在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個重要因素。因此，當點評某薄膜樣品的功用時，需求檢測該薄膜樣品不同厚度下的功用。對于真空鍍膜的情形，這往往需求進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀況不同，以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次，真空鍍膜試驗裝取樣品需求重新進行真空的獲得，十分耗時。增加了出產和檢測的本錢。

多功用磁控濺射鍍膜系統，由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實現蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個薄膜生長和器材制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氣氛的系統中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高功用、大面積有機光電器材和電路的制備。

PETP聚對苯二甲酸乙二醇醋，簡稱聚酯，是繼ABS后又一種滿意三種條件的塑料，所鍍的膜層具有很好的拉伸強度，耐性大。PS聚苯乙烯能夠接受100℃以下的溫度，真空鍍膜的習慣性也好，無色無味，耐酸堿性，是一種十分好的絕緣資料，不過由于容易脆裂，所以用處不是很廣泛。PC聚碳酸酯也能夠進行真空鍍膜，機械功能和抗沖擊性也好，但價格相對來說比較高，并且在成型時如果控制欠好，容易發(fā)生開裂。PA聚酰胺真空鍍膜后能夠防油防潮，遮光和隔熱功能也十分好，能夠作為出產包裝產品的資料。

真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無用的物質或能量”。多弧離子鍍膜機根據污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學特性而言，它可以是離子態(tài)或共價態(tài)，無機態(tài)或有機態(tài)。

與傳統的鍍膜方法相比，真空鍍膜屬于干法鍍膜，其主要方法有以下幾種:

　　1.真空蒸發(fā)

　　其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華，蒸發(fā)的離子流直接射向基片，在基片上沉積固體薄膜。

　　2.濺射涂層

　　濺射鍍膜是一種真空條件，在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg

　　3.離子電鍍法

　　即干式螺桿真空泵制造商已經推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術的基礎上發(fā)展起來的，所以具有兩者的工藝特點。在真空條件下，工作氣體或蒸發(fā)物質(膜材料)通過氣體放電被部分電離，蒸發(fā)物質或其反應物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過程中，襯底總是受到高能粒子的轟擊，這使得它非常干凈。

　　4.真空卷繞涂層

　　真空鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上進行連續(xù)鍍膜的技術，以實現柔性基板的某些功能性和裝飾性。