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ICP27MHz等離子體源等離子體源火炬等離子體源濺射

更新時間:2025-10-01 [舉報]

在 2.45 GHz 頻率下產(chǎn)生的微波具有產(chǎn)生等離子體的特優(yōu)勢。在這個頻率下,微波可以有效地與氣體的電子共振,從而提高電離效率。此外,2.45 GHz 頻率允許使用相對較小的腔體尺寸,這對于緊湊型等離子體源的設(shè)計非常有用。 微波等離子體源具有多種應(yīng)用,包括:

材料處理:微波等離子體源可用于表面處理、薄膜沉積和蝕刻工藝。它們可以幫助在各種材料上沉積薄膜,或改變材料的表面特性。

等離子體源是指產(chǎn)生和維持等離子體的設(shè)備或裝置。等離子體是由高能粒子擊打原子或分子而產(chǎn)生電離的氣態(tài)物質(zhì),通常包括正離子、電子等帶電粒子。等離子體源可以是利用高溫或高壓來產(chǎn)生等離子體,也可以是利用激光、微波等輻射來產(chǎn)生。在科學(xué)研究、工業(yè)應(yīng)用和醫(yī)療領(lǐng)域中,等離子體源被廣泛應(yīng)用于材料加工、離子注入、核聚變等方面。常見的等離子體源有等離子體切割機、等離子體切割焊接機、等離子體清洗機等。

標(biāo)簽:等離子體源濺射ECR同軸等離子體源
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