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在簡易隔離式偏壓電源設(shè)計中,非對稱半橋反激電路是關(guān)鍵。它通過同步降壓電路提供隔離電源,類似于同步降壓調(diào)節(jié)器的工作原理。輸入電壓驅(qū)動的場效應(yīng)管(FET)驅(qū)動電感電容濾波器,隨后通過分壓器和誤差放大器的協(xié)同作用,調(diào)整濾波器輸出,保持DC電壓穩(wěn)定。特別之處在于,電感電路中的耦合繞組和二極管設(shè)計巧妙地解決了負(fù)載電壓調(diào)節(jié)的難題,通過二極管的直流電壓調(diào)整,提升了負(fù)載調(diào)節(jié)的精度。如果采用場效應(yīng)管替代,性能將進一步提升。
總結(jié)起來,真空多弧離子鍍膜機的偏壓電源是一個精密調(diào)控的系統(tǒng),它通過復(fù)雜的電路設(shè)計,確保了離子的加速和沉積過程,從而實現(xiàn)的涂層工藝。無論是直流還是脈沖電源,每一環(huán)節(jié)都對終的鍍膜效果有著至關(guān)重要的影響。
發(fā)黑通常是由于過早氧化造成的。泛黃一般是因為鋁源中含有雜質(zhì)過多,一般純度應(yīng)在4 N或5N以上。無論是涂布機的真空度不達(dá)標(biāo),都要達(dá)到10—7倍Pa。(不準(zhǔn)確)。涂敷物品的清洗不,表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理,溫度過高或過低。涂層項目的潛在設(shè)置不合理。真空擴散泵油應(yīng)更換。調(diào)節(jié)蒸發(fā)源的溫度,不能太低或太高。如果電子束蒸發(fā),電子束的轟擊位置也應(yīng)該調(diào)整。
1.在真空鍍膜機運轉(zhuǎn)正常情況下,開動真空鍍膜機時,先開水管,工作中應(yīng)隨時注意水壓。
2.在離子轟擊和蒸發(fā)時,應(yīng)特別注意高壓電線接頭,不得觸動,以防觸電。
3.在用電子槍鍍膜時,應(yīng)在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃,觀察時應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線侵害人體。
4.鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間,應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置,及時排除有害粉塵。
5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。
6.酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進行,并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或堿洗槽中時,應(yīng)輕拿輕放,不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應(yīng)加蓋。
8.工作完畢應(yīng)斷電、斷水。
裝飾真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置,在真空室中利用電阻加熱法,將緊貼在電阻絲上的金屬絲(鋁絲)熔融汽化,汽化了金屬分子沉積于基片上,而獲得光滑高反射率的膜層,達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。
該設(shè)備具有:結(jié)構(gòu)合理,膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便,能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。
可加工的材料包括:ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、TPU等。
鍍制效果有:普通電鍍亮面、啞面(半啞、全?。⒐に囯婂儼櫦y、拉絲、雨滴、七彩等;鍍制顏色有:金、銀、紅、藍(lán)、綠、紫、七彩等等。
1)所需設(shè)備:CCZK-1850SFL連續(xù)式磁控鍍膜流水線
2) 獲得膜層:一層或多層金屬,合金或金屬化合物膜層
3)涂裝流程: 玻璃產(chǎn)品的前處理清洗過程---進片上線臺---粗抽室---過渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過渡室---粗抽室---出片下線臺---淋漆流水線(如果需要)---包裝成品
4)基本配置:
1.腔體結(jié)構(gòu):采用的臥式連續(xù)磁控鍍膜流水線,配備前后粗抽室,前后過渡室,前后精抽室,前后緩沖室,彩鍍室。
2.腔體材質(zhì):碳鋼
3.靶材設(shè)計:采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
4.電源配置:配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
5.電氣控制:生產(chǎn)線采用PLC全過程控制,配備工業(yè)計算機人機交互系統(tǒng),快速的節(jié)拍設(shè)計。
6.人機對話:控制系統(tǒng)能實現(xiàn)人、機對話,及時對生產(chǎn)過程進行必要干預(yù)。運行過程有報警提示和故障顯示,故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
7.傳動系統(tǒng):滾軸傳動,變頻可調(diào)
8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
9. 生產(chǎn)線安采用了的插板閥進行腔室隔斷,可以實現(xiàn)有效隔斷,穩(wěn)定工藝氣體。
10.生產(chǎn)線采用了均勻進氣管結(jié)構(gòu)設(shè)計,氣流注入均勻平緩;
11.泵抽系統(tǒng):擴散泵組或分子泵組+機械泵+羅茨泵
5)需求配套設(shè)施:
直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM),這種儀器可以直接驅(qū)動蒸發(fā)源,通過PID控制循環(huán)驅(qū)動擋板,保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接,它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的度是有限的,部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定,但溫度較高時,它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中,很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域,從而對膜層造成重大誤差。
? ? 光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的監(jiān)控方式,這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當(dāng))。度的改進源于很多因素,但根本的原因是對光學(xué)厚度的監(jiān)控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng),是采用間接測控,結(jié)合汪博士開發(fā)的光學(xué)監(jiān)控軟件,有效提高光學(xué)反應(yīng)對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差,提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測波長。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。