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單晶爐真空系統(tǒng)的除塵技術/單晶爐是單晶體生長設備。單晶體生長要求在真空和惰性氣體中進行。真空裝置應能保爐體內熱真空度達5×1024mm 柱以上。如果使用惰性氣體作保護氣氛，爐體上、下都設有進出氣的氣口。生長單晶體時，抽真空及真空裝置注入惰性氣體后都需配備除塵裝置。西安理工大學工廠生產(chǎn)的混合式除塵器較好地解決了這一問題。本廠單晶爐系列：TDR262A (B)、TDR280、TDR270A 等多種爐型近百臺產(chǎn)品都使用這種除塵器。實踐明，它的主要優(yōu)點是除塵，能適應不同抽氣階段真空度的要求，容塵量大。其具體結構見圖2、圖3。該除塵器綜合運用離心力、慣性碰撞、接觸阻留、擴散這幾種除塵機理。

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