化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

關(guān)于真空鍍膜機(jī)所用的塑料材料，需要與膜層結(jié)合性高，放氣量小，受熱穩(wěn)定，一起滿意這三個(gè)條件的塑料資料是十分少的，但塑料資料在工業(yè)出產(chǎn)中的應(yīng)用卻十分廣泛，所以塑料真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用也隨之發(fā)展起來，為了使更多的塑料投入到真空鍍膜中，常常經(jīng)過各種方法改善。

真空鍍膜機(jī)應(yīng)在真空過程前對(duì)真空材料進(jìn)行清洗，去除工件或系統(tǒng)材料表面的污染物;車燈鍍膜機(jī)零部件表面的清潔也是很有必要的，因?yàn)槲廴疚镆鸬臍怏w和蒸氣源不僅會(huì)使真空系統(tǒng)無法獲得所需的真空度。而且由于污染物的存在，還會(huì)影響真空部件連接處的強(qiáng)度和密封性能。

暴露在空氣中的真空鍍膜機(jī)表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現(xiàn)象、化學(xué)反應(yīng)、浸出干燥過程、機(jī)械處理、擴(kuò)散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。

　　①油脂:潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;

　?、谒?操作時(shí)的手汗、吹氣時(shí)的水蒸氣、唾液等。

　?、郾砻嫜趸?材料長時(shí)間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;

　?、芩帷A、鹽類物質(zhì):清洗時(shí)的殘留物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等。

　?、莪h(huán)境空氣中的拋光殘?jiān)⒒覊m和其他有機(jī)物等。

真空是支撐真空鍍膜機(jī)運(yùn)行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設(shè)備。通常，我們需要達(dá)到高的真空度，而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外，真空鍍膜設(shè)備的操作還有一點(diǎn)，就是工件的脫氣。有些工件內(nèi)部有大量氣體和水分，在設(shè)備加熱時(shí)會(huì)排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內(nèi)部機(jī)械結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致設(shè)備無法正常運(yùn)行。

在檢漏過程中，為了做好檢漏工作，有必要注意一些問題。

，檢查虛漏是否仍為實(shí)漏，因?yàn)楣ぜ?shù)據(jù)加熱后會(huì)出現(xiàn)不同程度的氣體，有可能被誤認(rèn)為是從外部流出的氣體，這就是虛漏，要消除這種情況。

第二，測試真空室的氣密性功能，確保氣密性功能符合要求。

三、檢查漏孔的大小、形狀、方位、漏速，編制解決方案并實(shí)施。

四、得出檢測儀器檢漏的檢出率和靈敏度，要檢查刻度的泄漏情況，防止一些泄漏孔被疏忽，提高泄漏檢測的準(zhǔn)確性。

五、掌握檢漏儀的反應(yīng)時(shí)間和消除時(shí)間，把握好時(shí)間，檢漏儀操作到位，時(shí)間少，檢漏功能一定差，時(shí)間長，浪費(fèi)檢漏氣和人工電。

六、還要防止泄漏堵塞，有時(shí)由于操作失誤，在檢漏過程中，一些灰塵或液體將泄漏堵塞，認(rèn)為孔的方向沒有泄漏，但當(dāng)由于內(nèi)外壓差進(jìn)展或其他原因?qū)е滦孤┛孜炊氯麜r(shí)，泄漏仍在那里。