真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)線設(shè)備是目前制作真空條件應(yīng)用為廣泛的真空設(shè)備,一般用真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司從事真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)團(tuán)隊(duì)及的售后服務(wù)隊(duì)伍為您解決設(shè)備在使用過(guò)程中遇到的任何問(wèn)題。
真空鍍膜生產(chǎn)線設(shè)備真空主體——真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異,真空腔的大小也不一樣,目前應(yīng)用多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等,腔體由不銹鋼" target=_blank>不銹鋼材料制作,要求不生銹、堅(jiān)實(shí)等,真空腔各部分有連接閥,用來(lái)連接各抽氣泵浦。
在電鍍流程中,電鍍液冷卻,可使金屬、非金屬分子穩(wěn)定。冷水機(jī)通過(guò)給電鍍液冷卻,使金屬分子隨著穩(wěn)定的電流快速貼附上鍍件表面,增加鍍件的平滑和密度,減少電鍍周期,并可有效地回收各類(lèi)昂貴的化學(xué)物質(zhì)。而在精密的真空鍍膜、光學(xué)鍍膜、微弧樣化鍍膜工藝中,工業(yè)冷水機(jī)制冷設(shè)備也同樣適用。
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一般濕式鍍層所制作之鍍膜會(huì)在表面覆蓋成一個(gè)薄膜層 ,不論底材之原先形狀為何,表面所呈現(xiàn)出來(lái)的薄膜層都會(huì)趨于平坦。PVD 鍍層會(huì)依底材形狀平均在上方形成一個(gè)鍍膜層,依底材高低形狀有所不同,經(jīng)鍍膜后的高低形狀也是依照原先底材之態(tài)樣。
電鍍填通孔技術(shù)可分為直流電鍍一步法、脈沖電鍍一步法及脈沖電鍍兩步法。
直流電鍍一步法被視為用銅填充通孔的理想工藝,因?yàn)樗纱笙薅鹊販p少電鍍槽的數(shù)量和縮短電鍍生產(chǎn)線長(zhǎng)度。但直流電鍍銅填通孔受基板厚度的限制。對(duì)于厚度小于0.20 mm、直徑為100μm的基板,搭配的設(shè)備和合適的添加劑,使用直流電鍍一步法尚可實(shí)現(xiàn)填通孔。
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