銥粉回收， 銥粉在半導(dǎo)體封裝中的回收技術(shù)
半導(dǎo)體封裝用銥濺射靶材（純度>99.995%）的回收工藝：

廢料特征：

靶材殘?bào)w含Ir 85-92%，摻雜Al?O?或SiO?散熱層。

分離技術(shù)：

高壓水射流（350MPa）剝離陶瓷層（效率>99%）。

真空感應(yīng)熔煉（1600℃）去除氧化物夾雜。

再生標(biāo)準(zhǔn)：

參數(shù) SEMI F47標(biāo)準(zhǔn) 再生靶材
電阻率(μΩ·cm) ≤5.3 5.1
晶粒尺寸(μm) 10-50 35
市場(chǎng)影響：臺(tái)積電采用該技術(shù)后，靶材采購(gòu)成本下降28%。

銥粉回收的聲表面波分選技術(shù)
高頻聲波（5MHz）分離銥復(fù)合物：

設(shè)備原理：

壓電換能器產(chǎn)生表面波，利用密度差異分離。

分選效果：

物料 銥回收率(%) 純度(%)
Ir/Al?O? 98 99.5
Ir/SiO? 95 99.2
Ir/石墨 90 98.8
優(yōu)勢(shì)：干法工藝，無廢水產(chǎn)生，處理量200kg/h。

銥粉回收在超導(dǎo)材料中的回收應(yīng)用
Nb?Sn超導(dǎo)線材銥阻隔層的回收：

材料解構(gòu)：

液氮冷凍脆化后機(jī)械剝離（-196℃）。

純化工藝：

電子束熔煉（10??Pa）去除Sn殘留。

再生指標(biāo)：

臨界電流密度Jc>3000A/mm2（4.2K,12T）。

行業(yè)影響：歐洲核子研究中心（CERN）年回收銥1.2噸。