化學(xué)組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學(xué),那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。
多功用磁控濺射鍍膜系統(tǒng),由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完結(jié)薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進(jìn)行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測(cè)。蒸騰鍍膜與手套箱組合,實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)驗(yàn)等工藝全封閉制造,使整個(gè)薄膜生長(zhǎng)和器材制備過程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氣氛的系統(tǒng)中,消除有機(jī)大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響,保障了高功用、大面積有機(jī)光電器材和電路的制備。
真空鍍膜機(jī)應(yīng)在真空過程前對(duì)真空材料進(jìn)行清洗,去除工件或系統(tǒng)材料表面的污染物;車燈鍍膜機(jī)零部件表面的清潔也是很有必要的,因?yàn)槲廴疚镆鸬臍怏w和蒸氣源不僅會(huì)使真空系統(tǒng)無(wú)法獲得所需的真空度。而且由于污染物的存在,還會(huì)影響真空部件連接處的強(qiáng)度和密封性能。
前期清洗真空鍍膜機(jī)可以減少很多麻煩,避免濺射鍍膜機(jī)的很多小問題,對(duì)真空鍍膜機(jī)的工作效率和鍍膜質(zhì)量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統(tǒng)中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩(wěn)定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發(fā)射和轟擊。
在鍍膜的過程中,由于工件內(nèi)氣體的受熱膨脹,很容易使已經(jīng)鍍膜的薄膜開裂。當(dāng)然,這種情況的概率取決于工件本身的物理性質(zhì)。比如容易膨脹的,比如塑料,概率就比較高,而對(duì)于堅(jiān)硬的材料,比如金屬,概率就比較低,但也不能忽略。因此,工件的除氣是非常必要的。
工件常用的除氣方法是烘烤。工件中的氣體和水分通過加熱排出。涂裝前,工件邊抽邊加熱。當(dāng)工件中的水分和氣體因受熱而釋放出來時(shí),它們與真空室中的氣體一起被真空泵抽出。針對(duì)不同的工件采取不同的脫氣措施,可以有效控制工件內(nèi)部氣體和水的排放,提高涂層的穩(wěn)定性和均勻性。
與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比,真空鍍膜屬于干法鍍膜,其主要方法有以下幾種:
1.真空蒸發(fā)
其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華,蒸發(fā)的離子流直接射向基片,在基片上沉積固體薄膜。
2.濺射涂層
濺射鍍膜是一種真空條件,在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg
3.離子電鍍法
即干式螺桿真空泵制造商已經(jīng)推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的,所以具有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下,工作氣體或蒸發(fā)物質(zhì)(膜材料)通過氣體放電被部分電離,蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過程中,襯底總是受到高能粒子的轟擊,這使得它非常干凈。
4.真空卷繞涂層
真空鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上進(jìn)行連續(xù)鍍膜的技術(shù),以實(shí)現(xiàn)柔性基板的某些功能性和裝飾性。
檢查泄漏情況是真空鍍鈦機(jī)真空度的一種檢查方法,簡(jiǎn)稱檢漏。真空的凹凸度直接影響鍍膜的作用,因此檢漏是的。通常情況下,真空室的漏氣是由腔壁上的一些孔或元件前的薄接頭引起的。抽氣系統(tǒng)抽氣時(shí),真空室內(nèi)壓力降低。內(nèi)外壓差使氣體從外部高壓流向低壓真空室,造成真空度降低。
在檢漏過程中,為了做好檢漏工作,有必要注意一些問題。
,檢查虛漏是否仍為實(shí)漏,因?yàn)楣ぜ?shù)據(jù)加熱后會(huì)出現(xiàn)不同程度的氣體,有可能被誤認(rèn)為是從外部流出的氣體,這就是虛漏,要消除這種情況。
第二,測(cè)試真空室的氣密性功能,確保氣密性功能符合要求。
三、檢查漏孔的大小、形狀、方位、漏速,編制解決方案并實(shí)施。
四、得出檢測(cè)儀器檢漏的檢出率和靈敏度,要檢查刻度的泄漏情況,防止一些泄漏孔被疏忽,提高泄漏檢測(cè)的準(zhǔn)確性。
五、掌握檢漏儀的反應(yīng)時(shí)間和消除時(shí)間,把握好時(shí)間,檢漏儀操作到位,時(shí)間少,檢漏功能一定差,時(shí)間長(zhǎng),浪費(fèi)檢漏氣和人工電。
六、還要防止泄漏堵塞,有時(shí)由于操作失誤,在檢漏過程中,一些灰塵或液體將泄漏堵塞,認(rèn)為孔的方向沒有泄漏,但當(dāng)由于內(nèi)外壓差進(jìn)展或其他原因?qū)е滦孤┛孜炊氯麜r(shí),泄漏仍在那里。