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鎮(zhèn)江丹徒提拉式長(zhǎng)晶爐回收螺桿真空泵回收附近公司

更新時(shí)間:2025-10-02 [舉報(bào)]
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DL-78型單晶爐的熱場(chǎng)和減壓工藝\1前言集成電路生產(chǎn)的發(fā)展一方面不斷縮小元件尺寸,以提高集成度;另一方面不斷擴(kuò)大硅片直徑以減少芯片的離故度和降低成本。相應(yīng)地,作為集成電路基礎(chǔ)材料的硅單晶生產(chǎn)也在不斷地提高其技術(shù)質(zhì)量指標(biāo)和增大單晶錠的直徑和長(zhǎng)度,以滿足電路的要求和降低自身的生產(chǎn)成本。在國(guó)外市場(chǎng)上,硅晶體直徑大致每4~5年增長(zhǎng)1時(shí)(25.4mm),相應(yīng)地,生產(chǎn)投料重也由1公斤逐漸發(fā)展為3~5公斤、8~12公斤、15~劉公斤和朋~6O公廳等幾個(gè)等級(jí)。在這發(fā)展中,有兩個(gè)條件是相輔相成、共同進(jìn)步的,這是單晶爐和拉晶工藝。
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權(quán)利要求1、一種直拉式單晶生長(zhǎng)爐,包括設(shè)于該爐頂部并伸入爐內(nèi)的輸入管(12)、與輸入管(12)相連通的環(huán)形氣體分布器(11);其特征在于經(jīng)輸入管(12)輸入的氣壓為0.8×10a0.9×10a,流量為30L/min。2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的直拉式單晶生長(zhǎng)爐,其特征在于還包括 設(shè)于該爐的坩堝支持器(14)下方和該爐底部的排氣口 (13)之間的氣流 導(dǎo)向裝置(20);該氣流導(dǎo)向裝置(20)為碗形,其包括設(shè)于氣流導(dǎo)向裝 置(20)底部的中軸孔(2-1)、設(shè)于所述中軸孔(2-1)兩側(cè)的一對(duì)電 極孔(2-2)、以及設(shè)于所述中軸孔(2-1)兩側(cè)并與該爐的排氣口 (13)相 對(duì)的通氣孔(2-3);該爐的石墨中軸(21)分子泵回收,真空泵回收,真空流量計(jì)回收,plc編程回收,控制屏回收,離子泵回收,渦輪分子泵回收,螺桿真空泵回收,渦旋高真空泵回收,浮力提拉單晶爐提拉機(jī)構(gòu)特性分析\一、引言 浮力提拉單晶爐(簡(jiǎn)稱FTD)是利用浮力原理設(shè)計(jì)成的提拉式單晶爐帕,十多年來(lái),用它先后生長(zhǎng)成功了多種晶體〔2一5〕。這種爐子容易制造,成本低,易于推廣,目前國(guó)內(nèi)已有幾個(gè)廠家使用它生產(chǎn)泥酸鏗單晶。作為一種發(fā)明,FTD也受到肯定和重視??墒?FTD在問(wèn)世以后,卻沒(méi)有進(jìn)行深入探討。雖然FTD的設(shè)計(jì)有過(guò)幾次變化,但由于沒(méi)有掌握設(shè)計(jì)的則,致使FTD存在不同程度的提拉不均勻現(xiàn)象,嚴(yán)重地影響了它的推廣普及。為了改善它的提拉特性,我們研究了FTD浮力提拉原理,對(duì)多臺(tái)FTD作了分析對(duì)比,由此找出了提拉不均勻性產(chǎn)生的根源;明確了FTD提拉機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)要領(lǐng)。希望這-一卜作能夠推動(dòng)FTD的發(fā)展.并有助于單晶的生長(zhǎng)研究和生產(chǎn)。二、FTD浮力提拉原理、提拉不均性的產(chǎn)生習(xí)C^l 奮幽1吮止~乙二丁~二二二Dr1.甲一一一一一一1。}

標(biāo)簽:提拉式長(zhǎng)晶爐回收
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